編號(hào)：NMJS06534
篇名：超快激光制備金屬表面微納米抗反射結(jié)構(gòu)進(jìn)展
作者：范培迅 ;鐘敏霖
關(guān)鍵詞： 抗反射 微納米結(jié)構(gòu) 超快激光
機(jī)構(gòu)： 清華大學(xué)材料學(xué)院激光材料加工研究中心,北京100084
摘要： 材料表面抗反射性能在太陽(yáng)能利用、光電子產(chǎn)品、紅外傳感和成像、軍事隱身、以及航空航天等領(lǐng)域均具有重要應(yīng)用價(jià)值。文中對(duì)材料表面抗反射特性的重要用途、人工實(shí)現(xiàn)路徑、表面抗反射結(jié)構(gòu)的研究現(xiàn)狀及存在的問(wèn)題等做了詳細(xì)的論述。目前，國(guó)內(nèi)外學(xué)者已經(jīng)利用碳納米管涂層和硅表面針狀納米結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了優(yōu)異的超寬波譜抗反射性能。但迄今為止，金屬表面微納米結(jié)構(gòu)的抗反射能力仍有很大的改善空間。作者所在的清華大學(xué)材料學(xué)院激光加工研究團(tuán)隊(duì)運(yùn)用新一代高功率高頻率超快激光，在金屬表面制備出多種類型的特征微納米結(jié)構(gòu)，對(duì)其抗反射性能進(jìn)行系統(tǒng)研究，實(shí)現(xiàn)了紫外一可見、紫外一近紅外、紫外一中紅外與紫外一遠(yuǎn)紅外分別為2％、6％、5％和8％的超寬光譜超低反射率，并且在0～60°入射角度范圍內(nèi)無(wú)明顯變化。進(jìn)一步在微納米結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上發(fā)展了“宏一微納一納米線”多級(jí)多尺度復(fù)合結(jié)構(gòu)，在16—17μm波長(zhǎng)處的總反射率低至0．6％，在14—18μm波長(zhǎng)處總反射率不超過(guò)3％。上述優(yōu)異超寬光譜抗反射性能預(yù)期具有良好應(yīng)用前景。
