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        鋅摻雜包覆狀氮化鎵納米線的制備及表征

        編號:NMJS06523

        篇名:鋅摻雜包覆狀氮化鎵納米線的制備及表征

        作者:吳麗君 ;李林虎 ;張勃 ;張軒碩 ;宋建宇 ;沈龍海

        關(guān)鍵詞: 化學(xué)氣相沉積 GAN納米線 包覆結(jié)構(gòu) 鋅摻雜

        機(jī)構(gòu): 沈陽理工大學(xué)理學(xué)院,沈陽110159

        摘要: 采用化學(xué)氣相沉積法在石英襯底上沉積出鋅摻雜的GaN納米線。利用X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線能譜儀(EDS)和拉曼光譜(Raman)對鋅摻雜GaN納米線進(jìn)行了結(jié)構(gòu)和形貌的表征。結(jié)果表明:鋅摻雜后GaN納米線的XRD圖譜向低角度方向移動,衍射峰更加明顯。鋅摻雜Ga N納米線存在一層包覆結(jié)構(gòu),納米線的直徑范圍約為300~500 nm,包覆層的厚度在150~200 nm。鋅摻雜GaN納米線的Raman光譜在E2(high)和A1(LO)出現(xiàn)了微小的紅移。最后對包覆結(jié)構(gòu)的可能形成機(jī)理進(jìn)行了探討。

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