編號(hào)：NMJS06412
篇名：在不同水基納米TiN流體中銅片的腐蝕行為
作者：陳旭 ;吳張永 ;莫子勇 ;蔡曉明 ;魏鏡弢
關(guān)鍵詞： 納米TiN流體 分散劑 分散介質(zhì) 超聲分散時(shí)間 腐蝕速率
機(jī)構(gòu)： 昆明理工大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院,昆明650500
摘要： 以不同添加量的十六烷基三甲基溴化銨（CTMAB）、N-聚乙烯吡咯烷酮（PVP）以及兩者的混合物為分散劑，以自來水、去離子水、膜處理水為分散介質(zhì)，在不同超聲分散時(shí)間下分別制備得到了不同的納米TiN流體，研究了銅片在這些流體中的腐蝕行為。結(jié)果表明：當(dāng)以CTMAB為分散劑時(shí)能促進(jìn)銅片的腐蝕，銅片腐蝕速率隨CTMAB含量的增加而增大，隨著超聲分散時(shí)間的延長先急劇下降，當(dāng)超過8min后變化較小，最佳超聲分散時(shí)間為8min；當(dāng)以PVP為分散劑時(shí)能抑制銅片的腐蝕，銅片的腐蝕速率隨著PVP含量的增加而減小，隨著超聲分散時(shí)間的延長先增后降，最佳超聲分散時(shí)間為6～8min；當(dāng)以自來水為分散介質(zhì)時(shí)銅片的腐蝕速率最大，其次為以去離子水為分散介質(zhì)的，以膜處理水為分散介質(zhì)的最小。
