編號(hào)：CPJS05562
篇名：Ni-納米SiC復(fù)合鍍層的制備及其摩擦磨損性能
作者：吉文哲[1] ;王守忠[2]
關(guān)鍵詞： 脈沖電沉積 Ni-納米SiC復(fù)合鍍層 工藝參數(shù) 硬度 耐磨性
機(jī)構(gòu)： [1]商丘職業(yè)技術(shù)學(xué)院汽車(chē)建筑工程系,河南商丘476000; [2]商丘職業(yè)技術(shù)學(xué)院生物工程系,河南商丘476000
摘要： 為提高Ni．SiC復(fù)合鍍層的耐磨性，采用脈沖電沉積的方法，在Q235鋼表面上制備了Ni-納米SiC復(fù)合鍍層，利用掃描電鏡（SEM）、X射線(xiàn)衍射儀（XRD）、顯微硬度計(jì)及摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)等分析了單個(gè)工藝條件對(duì)Ni-SiC復(fù)合鍍層顯微硬度和耐磨性的影響規(guī)律，觀(guān)察、測(cè)試、比較了純Ni鍍層和Ni-SiC復(fù)合鍍層的表面形貌和摩擦磨損性能。結(jié)果表明：隨著納米SiC粒子濃度在3～13g／L范圍內(nèi)逐漸增大，鍍層的硬度先升高后降低，磨損量逐漸下降；隨著平均電流密度在1—6A／dm2之間逐漸增加，鍍層的硬度先升高而后下降，磨損量先減少后增加；隨著占空比在10％～60％范圍內(nèi)逐漸增加，鍍層的硬度逐漸下降，磨損量逐漸升高。純鎳鍍層組織較疏松，晶粒比較粗大，當(dāng)SiC濃度為9g／L、電流密度為dA／dm2、占空比為10％時(shí)，Ni-SiC復(fù)合鍍層組織致密，SiC粒子分布均勻，其磨損量相對(duì)純鎳鍍層減少了4倍以上。
