編號：FTJS06802
篇名：電流密度對Ni／WC-Co納米復(fù)合鍍層性能的影響
作者：宋見 ;陳吉
關(guān)鍵詞： 電流密度 納米晶 WC-CO 耐蝕性
機(jī)構(gòu)： 遼寧石油化工大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院,遼寧撫順113001
摘要： 采用直流電沉積方法，在黃銅基體上制備出Ni／WC-Co納米復(fù)合鍍層。分別采用SEM和XRD表征鍍層的表面形貌和結(jié)構(gòu)，采用微米壓痕儀測量鍍層的硬度，采用電化學(xué)工作站測量鍍層的極化曲線。結(jié)果表明：Ni／WC-Co納米復(fù)合鍍層的耐蝕性隨電流密度的增大呈現(xiàn)出先升高后降低的趨勢；當(dāng)電流密度為10A／dm^2時(shí)，Ni／WC-Co納米復(fù)合鍍層的耐蝕性最好，自腐蝕電位最正，自腐蝕電流密度最小。
