編號(hào)：NMJS06269
篇名：銅納米線的液相制備及其表面修飾研究進(jìn)展
作者：高琪 ;闞彩俠 ;李俊龍 ;樓葉珂 ;魏菁菁
關(guān)鍵詞： 銅納米線 液相還原法 單晶 孿晶 表面氧化 表面修飾
機(jī)構(gòu)： 南京航空航天大學(xué)理學(xué)院應(yīng)用物理系,南京211106
摘要： 在現(xiàn)代納米科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域中,銅納米線由于具有獨(dú)特的光學(xué)、電學(xué)、力學(xué)和熱學(xué)性質(zhì)而成為制備透明柔性導(dǎo)電電極的優(yōu)良材料。銅價(jià)格低廉,自然存儲(chǔ)量較大,是實(shí)際應(yīng)用中替代貴金屬的理想材料。然而,將銅離子還原為單質(zhì)銅比較困難,且單質(zhì)銅非常容易被氧化,這成為應(yīng)用中亟需解決的關(guān)鍵問(wèn)題。如何制備單分散、穩(wěn)定且具有抗氧化性的銅納米線也成為該領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。在各種制備銅納米線的方法中,液相還原法不僅可以解決以上問(wèn)題,且該方法具有制備條件限制少、成本低、簡(jiǎn)單易行等優(yōu)點(diǎn)而被廣泛應(yīng)用于銅納米線的大量合成。本文從銅納米線的研究背景和研究?jī)r(jià)值入手,首先綜述了不同（光滑或粗糙、單晶或?qū)\晶）銅納米線的液相制備方法及其生長(zhǎng)機(jī)制。討論了銅納米線的氧化及其抗氧化表面包覆問(wèn)題。最后對(duì)銅納米線的研究意義和應(yīng)用前景做出展望。
