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        電化學(xué)沉積錳修飾TiO2納米管陣列的正交試驗(yàn)研究

        編號(hào):NMJS06265

        篇名:電化學(xué)沉積錳修飾TiO2納米管陣列的正交試驗(yàn)研究

        作者:熊中平 ;司玉軍 ;李敏嬌 ;馮具平

        關(guān)鍵詞: TiO2 納米管陣列 錳修飾 電化學(xué)沉積 光電響應(yīng)

        機(jī)構(gòu): 綠色催化四川省高校重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,四川理工學(xué)院化學(xué)與制藥工程學(xué)院,四川自貢643000

        摘要: 用陽(yáng)極氧化法在鈦片表面制備空白TiO2納米管陣列,用電化學(xué)陰極還原法在其表面沉積錳,通過(guò)正交試驗(yàn)考察沉積條件對(duì)錳修飾TiO2納米管陣列光電響應(yīng)的影響。結(jié)果表明,錳的表面修飾可以增強(qiáng)TiO2納米管陣列對(duì)可見(jiàn)光的響應(yīng),在0.5 V(vs.SCE)的偏電壓下,光電流顯著增大。沉積時(shí)間和沉積電壓是影響錳沉積的主要因素,錳沉積的最佳條件為:沉積時(shí)間30s、電壓-2V、錳離子濃度10 mmol/L。

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