編號(hào)：NMJS00191
篇名：濺射壓強(qiáng)對(duì)TiN/SiN_x納米多層膜微觀結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能的影響
作者：安濤; 王麗麗; 文懋; 鄭偉濤;
關(guān)鍵詞：TiN/SiNx多層膜; 界面寬度; 表面形貌;
機(jī)構(gòu)： 長春大學(xué)理學(xué)院; 吉林大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
摘要： 利用磁控濺射方法在不同濺射壓強(qiáng)條件下制備了TiN/SiNx納米多層膜.多層膜的微觀結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能分別用X射線衍射儀、原子力顯微鏡及納米壓痕儀來表征.結(jié)果表明隨著濺射壓強(qiáng)的增大,多層膜的界面變模糊,TiN層的擇優(yōu)取向由(200)晶面過渡到(111)晶面.與此同時(shí),多層膜的表面粗糙度增大,硬度和彈性模量隨濺射壓強(qiáng)的增大而減小.多層膜力學(xué)性能的差異主要是由于薄膜的周期性結(jié)構(gòu)及致密度存在差異所致.
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