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        陽極氧化Ti3SiC2制備納米孔陣列

        編號:CPJS04913

        篇名:陽極氧化Ti3SiC2制備納米孔陣列

        作者:尹洪峰 ;何晨 ;侯琴 ;袁蝴蝶

        關(guān)鍵詞:TI3SIC2 陽極氧化 納米孔 電解液 氧化電壓

        機(jī)構(gòu): 西安建筑科技大學(xué)材料與礦資學(xué)院,西安710055

        摘要: 以NH4F和乙二醇為電解液,采用陽極氧化法在Ti_3SiC_2表面制備納米多孔結(jié)構(gòu),研究陽極氧化電壓、電解液濃度和氧化時間對納米多孔結(jié)構(gòu)形成的影響。利用場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)、X射線衍射儀(XRD)和X射線光電子能譜(XPS)對納米多孔結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征。結(jié)果表明:孔徑隨著氧化電壓的升高而增大,且延長氧化時間有利于制備孔徑均勻的納米孔;Ti_3SiC_2試樣經(jīng)陽極氧化后除含有Ti、Si、C元素外,還含有O元素,且以TiO_2的形態(tài)存在。

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