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        正畸不銹鋼弓絲表面納米二氧化硅涂層的研制

        編號:CPJS04854

        篇名:正畸不銹鋼弓絲表面納米二氧化硅涂層的研制

        作者:陳曉星[1,3] ;李華[2] ;張昊[1] ;馬俊青[1] ;李琥[1] ;王震東[1] ;嚴斌[1] ;李青奕[1] ;韶青華[1] ;谷妍[1] ;王威[1]

        關(guān)鍵詞:納米二氧化硅 磁控濺射 正畸不銹鋼弓絲 摩擦性能

        機構(gòu): [1]南京醫(yī)科大學口腔疾病研究江蘇省重點實驗室,江蘇南京210029; [2]鎮(zhèn)江市口腔醫(yī)院正畸科,江蘇鎮(zhèn)江212001; [3]南京市鼓樓區(qū)康愛社區(qū)衛(wèi)生服務中心口腔科,江蘇南京210037

        摘要: 目的:研制納米二氧化硅涂層正畸不銹鋼弓絲,并對弓絲涂層結(jié)構(gòu)表面性能以及基本物理性能進行初步研究。方法:采用非平衡磁控濺射法,在不銹鋼正畸弓絲表面沉積生成納米二氧化硅膜,使用掃描電鏡和能譜分析觀察分析改性弓絲表面及截面的形貌特性,并比較兩種弓絲的摩擦性能。結(jié)果:研制生產(chǎn)出納米二氧化硅涂層弓絲,弓絲表面沉積二氧化硅薄膜厚度約50 nm。二氧化硅尺寸均一,分布均勻,表面光潔度高,涂層弓絲摩擦性能明顯優(yōu)于不銹鋼弓絲。結(jié)論:弓絲表面納米二氧化硅鍍膜對弓絲尺寸幾乎無影響,具有良好表面性狀及光化學活性,且降低了托槽—弓絲間的摩擦力,可以滿足口腔正畸臨床需要。

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