編號(hào)：NMJS05806
篇名：熱處理對(duì)CuO納米線(xiàn)生長(zhǎng)的影響
作者：謝立林[1] ;趙慧[1] ;張曉娜[1] ;汪友[1] ;張澤[2]
關(guān)鍵詞：氧化銅納米線(xiàn) 熱氧化法 生長(zhǎng) 擴(kuò)散
機(jī)構(gòu)： [1]北京工業(yè)大學(xué)固體微結(jié)構(gòu)與性能研究所,北京100124; [2]浙江大學(xué)電子顯微鏡中心,硅材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,材料科學(xué)與工程學(xué)院,浙江杭州310027
摘要： 本文通過(guò)熱氧化法制備了CuO納米線(xiàn),利用X射線(xiàn)衍射和掃描電子顯微鏡,研究了溫度和冷卻方式對(duì)CuO納米線(xiàn)生長(zhǎng)的影響。600℃空冷樣品只長(zhǎng)出了少量CuO納米線(xiàn),600℃爐冷樣品上觀察到了大量CuO納米線(xiàn),400℃空冷樣品上也生長(zhǎng)了大量CuO納米線(xiàn),表明CuO納米線(xiàn)的實(shí)際生長(zhǎng)溫度不高于400℃。溫度比較高時(shí),以CuO層的生長(zhǎng)為主;在溫度比較低時(shí),以CuO納米線(xiàn)的生長(zhǎng)為主。這一結(jié)果可以通過(guò)銅離子在氧化層中的擴(kuò)散過(guò)程來(lái)理解。
