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        可控納米Ag修飾ZnO線陣列及其降解羅丹明B研究

        編號:CPJS04586

        篇名:可控納米Ag修飾ZnO線陣列及其降解羅丹明B研究

        作者:吳慧敏 ;許諾 ;羅千里 ;羅艷

        關鍵詞:Zn O納米線陣列 Ag納米粒子 羅丹明B 光催化降解

        機構: 江西省持久性污染物控制與資源循環(huán)利用重點實驗室

        摘要: 利用水熱法在ITO玻璃上制備了沿(002)晶面生長直徑為120 nm左右的Zn O線陣列,然后通過浸漬-光還原法在Zn O的表面均勻生長50 nm左右銀納米粒子;以乙二醇作溶劑,有效地抑制了Ag的團聚與連續(xù)生長;通過調控硝酸銀的濃度,改變Ag的負載量而不影響其大小。研究表明:硝酸銀濃度為5 mol/m L時,負載量為0.8%,在紫外可見光下降解羅丹明B效率最快,比純Zn O提高2倍多。探討了可能的降解機理,發(fā)現其主要的活性物種為羥基自由基。

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