編號(hào)：CPJS04428
篇名：SiO_2粉體的制備及性能研究
作者：劉宇
關(guān)鍵詞：SiO_2粉體 化學(xué)沉淀法 工藝條件 粒度
機(jī)構(gòu)： [1]景德鎮(zhèn)陶瓷大學(xué)材料學(xué)院,江西景德鎮(zhèn)333403; [2]國(guó)家日用及建筑陶瓷工程技術(shù)研究中心,江西景德鎮(zhèn)333001
摘要： SiO2粉體具有比表面積大,密度小和分散性能好等特性,被用作電子封裝材料、添加劑、和改性劑等。本文將通過(guò)對(duì)粉體制備過(guò)程中各種反應(yīng)因素的控制來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)粉體顆粒度的控制,以達(dá)到優(yōu)化硅材料的各種物理化學(xué)性能。SiO2粉體的制備以九水硅酸鈉和鹽酸為原料,添加適量的非表面活性劑和分散劑,在適當(dāng)?shù)膒 H值和反應(yīng)溫度下,采用化學(xué)沉淀法合成硅膠,然后水解,干燥,最后在馬弗爐中煅燒得到SiO2粉體。
