編號(hào)：FTJS05922
篇名：低價(jià)氧化鋁真空碳熱氯化反應(yīng)機(jī)理研究
作者：盧勇[1,2,3] ;周岳珍[1,2,3] ;陳秀敏[1,2,3] ;董朝望[1,2,3] ;郁青春[1,2,3] ;劉
關(guān)鍵詞：從頭算分子動(dòng)力學(xué) 碳熱氯化反應(yīng) 熱力學(xué) Al2O AlCl3
機(jī)構(gòu)： [1]真空冶金國(guó)家工程實(shí)驗(yàn)室,昆明650093; [2]云南省有色金屬真空冶金重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,昆明650093; [3]省部共建復(fù)雜有色金屬資源清潔利用國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,昆明650093
摘要： 為研究低價(jià)氧化鋁、三氯化鋁以及碳在真空下反應(yīng)的機(jī)理,對(duì)該反應(yīng)進(jìn)行熱力學(xué)計(jì)算,計(jì)算結(jié)果表明反應(yīng)在1760K,60 Pa的條件下可以進(jìn)行。采用基于密度泛函框架下的第一性原理平面波贗勢(shì)法,計(jì)算得到Al2O與C、Al Cl3與C以及Al2O與Al Cl3和C的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。并用從頭算分子動(dòng)力學(xué)的方法模擬了它們?cè)?760 K,60 Pa的條件下的反應(yīng)過(guò)程,結(jié)果表明Al2O、Al Cl3分別在C（001）表面時(shí),Al2O更容易發(fā)生解離,同時(shí)在C表面時(shí)Al Cl3會(huì)先發(fā)生離解,最后有吸附態(tài)的Al Cl分子和CO分子生成。
