編號(hào)：NMJS05553
篇名：不同溶劑下制備B2 O3/SiO2納米復(fù)合材料對(duì)其室溫磷光的影響
作者：莊貞靜[1] ;肖丹[2]
關(guān)鍵詞：室溫磷光 二氧化硅 摻雜 硼
機(jī)構(gòu)： [1]華僑大學(xué)分子藥物學(xué)研究院,福建泉州362021; [2]四川大學(xué)化學(xué)學(xué)院,四川成都610064
摘要： 本文通過(guò)對(duì)比不同溶劑制備的B2 O3/SiO2納米復(fù)合材料室溫磷光光譜，并結(jié)合FTIR及XRD的表征結(jié)果，研究溶劑對(duì)該材料磷光性能的影響。結(jié)果表明，不管用何種溶劑制備B2 O3/SiO2室溫磷光材料，均存在兩個(gè)磷光發(fā)射峰，一個(gè)是位于520-540nm之間，該發(fā)光可能是與氧化硼有關(guān)的二氧化硅雜質(zhì)缺陷發(fā)光，另一個(gè)位于470-780nm處，該磷光峰推測(cè)是二氧化硅的結(jié)構(gòu)缺陷發(fā)光。但是在制備過(guò)程中溶劑將影響氧化硼在二氧化硅結(jié)構(gòu)中的摻雜，進(jìn)而影響其發(fā)光中心的相對(duì)發(fā)光強(qiáng)度。
