編號：FTJS05740
篇名：包覆層厚度對 Fe3O4＠SiO2核殼結(jié)構(gòu)納米粒子磁共振性能的影響
作者：萬家齊 ;陳克正 ;王書憲
關(guān)鍵詞：四氧化三鐵 二氧化硅 核殼結(jié)構(gòu) 硅粉水解 磁共振成像性能
機(jī)構(gòu)： 青島科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,山東青島266042
摘要： 二氧化硅包覆四氧化三鐵核殼結(jié)構(gòu)納米粒子在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域有著廣泛的用途。本文采用單質(zhì)硅粉水解法，以單分散水溶性 Fe3 O4納米粒子為內(nèi)核，通過改變反應(yīng)體系中單質(zhì)硅粉的加入質(zhì)量，制備了不同包覆厚度的 Fe3 O4＠SiO2納米粒子，并對SiO2包覆層厚度對 Fe3 O4納米粒子磁共振性能的影響進(jìn)行了研究。結(jié)果表明：隨著 SiO2殼層厚度的增加，橫向弛豫效率 r2逐漸降低。弛豫效率降低是由水分子與磁性納米粒子內(nèi)核之間的距離逐漸增大引起的。
