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        銅鎳合金催化制備大面積均勻的少層石墨烯

        編號:NMJS05495

        篇名:銅鎳合金催化制備大面積均勻的少層石墨烯

        作者:劉平; 龍明生; 李銘;

        關(guān)鍵詞:石墨烯; 化學(xué)氣相沉積; 銅鎳合金; 層數(shù)可控;

        機構(gòu): 華南師范大學(xué)物理與電信工程學(xué)院物理系廣東省量子調(diào)控工程與材料重點實驗室; 中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所;

        摘要: 少層(1~5層)大面積均勻石墨烯的可控制備,是實現(xiàn)石墨烯在邏輯器件和透明導(dǎo)電電極中使用的關(guān)鍵。本工作使用常壓化學(xué)氣相沉積(CVD)方法,在銅鎳合金基底上生長出少數(shù)層大面積均勻石墨烯。通過調(diào)節(jié)銅鎳合金的厚度以及控制生長過程中的溫度、時間、碳源濃度,本工作實現(xiàn)了層數(shù)可控石墨烯的制備。光學(xué)顯微術(shù)、拉曼光譜、紫外可見吸收光譜、高分辨率透射電鏡表征結(jié)果表明:制備出的石墨烯是大面積均勻的高質(zhì)量少層石墨烯。

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