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        提拉法制備二氧化硅陶瓷膜的形貌及性能

        編號:FTJS05696

        篇名:提拉法制備二氧化硅陶瓷膜的形貌及性能

        作者:周琦; 萬文露; 張春麗; 賀春林;

        關(guān)鍵詞:復合電鍍; 氧化硅; 陶瓷; 溶膠-凝膠;

        機構(gòu): 沈陽理工大學環(huán)境與化學工程學院; 西藏大學理學院; 沈陽大學遼寧省先進材料制備技術(shù)重點實驗室;

        摘要: 采用浸漬提拉工藝在復合鍍鎳的A3鋼表面制備氧化硅陶瓷膜。借助掃描電鏡觀察陶瓷膜的微觀形貌,應用電化學阻抗譜測試陶瓷膜的耐蝕性能并揭示耐蝕機理。用平面磨耗試驗機測試了陶瓷膜的耐磨性能。結(jié)果表明:在500℃下燒結(jié)的氧化硅陶瓷膜為類似微裂紋鍍鉻的表面形貌;在400℃下燒結(jié)的氧化硅陶瓷膜與微孔鍍鉻的表面形貌相似;400℃及500℃燒結(jié)后形成無定形的SiO2陶瓷膜。阻抗較高的氧化硅陶瓷膜在3.5%(質(zhì)量分數(shù))NaCl溶液中的腐蝕過程為擴散控制,能明顯抑制鍍鎳A3鋼的腐蝕。氧化硅陶瓷膜降低了復合鍍鎳層的孔隙率。浸漬提拉成膜后膜層耐磨性能顯著優(yōu)于只復合鍍鎳的A3鋼,浸漬提拉法能提高鐵基體復合鍍鎳的耐磨性能。

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