編號(hào)：FTJS05689
篇名：高能微波輻照條件下SiC晶粒的生長(zhǎng)過程分析
作者：黃珊； 王繼剛； 劉松； 李凡；
關(guān)鍵詞：微波； 微米晶粒； 碳化硅； 生長(zhǎng)機(jī)理；
機(jī)構(gòu)： 江蘇省先進(jìn)金屬材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室東南大學(xué),材料科學(xué)與工程學(xué)院； 東南大學(xué)張家港工業(yè)技術(shù)研究院；
摘要： 利用高能真空微波輻照,僅以SiO2和人造石墨粉為原料,便捷快速地合成得到結(jié)晶良好的β-SiC晶粒。在利用各種表征手段綜合分析SiC晶粒微觀結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上,確認(rèn)高能微波輻照條件下,β-SiC晶粒的生長(zhǎng)過程符合"光滑界面的二維形核生長(zhǎng)"機(jī)制。借助于電子背散射衍射技術(shù)(EBSD)進(jìn)行的原位解析發(fā)現(xiàn),生長(zhǎng)最快的{211}面在晶粒長(zhǎng)大過程中逐漸被超覆,通過形成{421}過渡晶面而最終演變?yōu)閧220}晶面,并成為晶粒的側(cè)面;而生長(zhǎng)最慢的{111}面則成為最后保留下來的六角形規(guī)則晶面。EBSD的解析結(jié)果為SiC晶粒生長(zhǎng)過程中晶面演變提供了直接的實(shí)驗(yàn)證據(jù)。
