編號：CPJS03593
篇名：碳材料表面沉積硅化物的研究
作者：唐建新； 高軍； 王重海； 張銘霞； 杜斌； 李傳山；
關(guān)鍵詞：碳材料； 涂層； 化學液相沉積； 硅化物；
機構(gòu)： 山東理工大學； 山東工業(yè)陶瓷研究設(shè)計院有限公司；
摘要： 采用化學液相沉積工藝(RCLD),在碳材料表面快速附著一層結(jié)合緊密、致密均勻的硅化物涂層,研究了不同直徑的預(yù)制體表面處理以及電壓和電流等對碳材料外部硅化物層結(jié)構(gòu)和性能的影響。結(jié)果表明,經(jīng)王水腐蝕的石墨表面粗糙化,有利于沉積層的生成和附著;預(yù)制體的直徑為7mm、電壓為52V、電流為60A時的抗氧化沉積層具有較好的性能。
