編號(hào)：FTJS05193
篇名：氮?dú)饬髁繉?duì)復(fù)合離子鍍TiAlN薄膜性能的影響
作者：薛利； 黃美東； 程芳； 劉野； 許世鵬； 李云珂；
關(guān)鍵詞：電弧離子鍍； 磁控濺射； TiAlN薄膜； 氮?dú)饬髁浚?晶體結(jié)構(gòu)； 表面形貌； 硬度；
機(jī)構(gòu)： 天津師范大學(xué)物理與材料科學(xué)學(xué)院；
摘要： 利用電弧離子鍍和磁控濺射相結(jié)合的復(fù)合鍍技術(shù),在300 V偏壓、不同氮?dú)饬髁肯轮苽淞艘幌盗蠺iAlN薄膜.利用XP-2臺(tái)階儀、XRD、SEM和納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)分別對(duì)薄膜的沉積速率、晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌、硬度和彈性模量等進(jìn)行測(cè)試和分析.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:隨著氮?dú)饬髁康脑龃?薄膜的表面質(zhì)量逐漸提高,薄膜的硬度和彈性模量均隨氮?dú)饬髁康脑龃蟪尸F(xiàn)出先增加后減小的變化趨勢(shì).
