編號：NMJS05219
篇名：脈沖摩擦噴射電沉積制備納米晶鎳沉積層
作者：馬云； 沈理達(dá)； 田宗軍； 劉志東； 朱軍；
關(guān)鍵詞：噴射電沉積； 脈沖電源； 摩擦； 納米晶； 鎳；
機構(gòu)： 南京航空航天大學(xué)江蘇省精密與微細(xì)制造技術(shù)重點實驗室； 南京航空航天大學(xué)機電學(xué)院；
摘要： 采用脈沖摩擦噴射電沉積和直流噴射電沉積分別在石墨基底上制備了納米晶鎳鍍層,利用掃描電鏡和X射線衍射分析了脈沖占空比和脈沖頻率對鎳鍍層的表面形貌、晶粒的擇優(yōu)取向及平均晶粒尺寸的影響。結(jié)果表明脈沖摩擦噴射電沉積較直流噴射電沉積的沉積效果有較大提高,在噴嘴流量為200L/h,平均電流密度為80A/dm2,陰極轉(zhuǎn)速為6r/min的條件下,脈沖占空比為50%,脈沖頻率為2000Hz時可以獲得表面較為平整光亮、組織致密的Ni沉積層。
