編號：NMJS05190
篇名：高密度聚乙烯-蒙脫土納米復合材料微結(jié)構(gòu)的正電子研究
作者：連媛； 王紅梅； 陳喆；
關(guān)鍵詞：高分子納米復合材料； 接枝； 正電子湮沒； 自由體積；
機構(gòu)： 嘉興學院材料與紡織工程學院； 嘉興學院生物與化學工程學院； 武漢工程大學材料科學與工程學院；
摘要： 正電子湮沒技術(shù)作為一種無損的微結(jié)構(gòu)檢測方法在高分子/層狀硅酸鹽納米復合材料中具有廣泛的應(yīng)用前景。本研究利用正電子湮沒壽命譜學方法,對丙烯酸接枝前后高密度聚乙烯和蒙脫土的納米復合材料的微結(jié)構(gòu)進行了表征。實驗發(fā)現(xiàn),丙烯酸的接枝導致了o-Ps強度的減小。納米復合材料中o-Ps強度及o-Ps壽命分布隨蒙脫土含量增加的變化,證實了極性丙烯酸基團優(yōu)先進入了蒙脫土片層之中。
