編號：NMJS05151
篇名：GaAs納米線及GaAs/InxGa1-xAs/GaAs納米線徑向異質(zhì)結(jié)構(gòu)的無催化選區(qū)生長的實驗研究
作者：崔建功； 張霞； 顏鑫； 李軍帥； 黃永清； 任曉敏；
關(guān)鍵詞：GaAs納米線； 無催化選區(qū)生長； 金屬有機化學(xué)氣相沉積法；
機構(gòu)： 北京郵電大學(xué),信息光子學(xué)與光通信國家重點實驗室；
摘要： 利用無催化選區(qū)金屬有機化學(xué)氣相沉積(SA-MOCVD)法在GaAs(111)B襯底上分別制備了GaAs納米線和GaAs/InxGa1-xAs/GaAs納米線徑向異質(zhì)結(jié)構(gòu).系統(tǒng)地研究了生長條件對GaAs納米線生長的影響.實驗結(jié)果顯示,GaAs納米線的形貌和長度依賴于生長溫度、AsH3的分壓以及SiO2掩膜表面的圓孔直徑.因此可以通過調(diào)節(jié)以上因素來得到高質(zhì)量的GaAs納米線.并且發(fā)現(xiàn)擴散是影響無催化選區(qū)生長GaAs納米線的主要機理.微區(qū)光致發(fā)光譜(μ-PL)表明,GaAs/InxGa1-xAs/GaAs納米線徑向異質(zhì)結(jié)構(gòu)被成功合成,室溫(300 K)下它的發(fā)光波長為913 nm.這些結(jié)果對于GaAs納米線及其異質(zhì)結(jié)構(gòu)制備的進一步研究及其在光電子器件中的應(yīng)用具有很好的參考價值.
