編號：CPJS02790
篇名：納米SnO2磨料的制備及其在釕化學機械拋光中的應用（英文）
作者：儲向峰； 李秀金； 董永平； 喬紅斌； 白林山；
關鍵詞：納米二氧化錫； 磨料； 化學機械拋光； 釕；
機構： 安徽工業(yè)大學；
摘要： 利用固相反應法制備納米二氧化錫磨料并研究了制備條件對平均粒徑的影響。結果表明,在500℃/4h條件下制得的納米二氧化錫粉體在水中有良好的分散性和穩(wěn)定性。利用自制的拋光液對高純釕片進行化學機械拋光,與二氧化硅磨料拋光液比較,材料去除速率和表面粗糙度都降低。當拋光液中含1%(質量分數(shù),下同)二氧化錫、1%過硫酸銨、1%酒石酸和3mmol/L咪唑,pH=8.0,拋光壓力為17.24kPa時,材料去除速率(MRR)和表面粗糙度(Ra)分別為6.8nm/min和4.8nm。
