編號(hào)：NMJS05084
篇名：軟模板納米壓印技術(shù)及其對(duì)共軛高分子的取向控制研究
作者：陸乃彥； 翁雨燕；
關(guān)鍵詞：納米壓��； 軟模板； 共軛高分子； 分子鏈取向；
機(jī)構(gòu)： 江南大學(xué)食品科學(xué)與技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室食品學(xué)院； 蘇州大學(xué)軟凝聚態(tài)物理及交叉研究中心物理與光電·能源學(xué)部；
摘要： 納米壓印模板通常需要經(jīng)過(guò)電子束光刻、電子束沉積、光刻膠剝離、反應(yīng)離子刻蝕等一系列復(fù)雜工藝獲得,這使得納米壓印模板的制作難度大,成本高.尋找一種靈活簡(jiǎn)單的納米壓印模板制備方法以提升納米壓印模板的制作效率,是廣泛應(yīng)用納米壓印技術(shù)的研究重點(diǎn)和難點(diǎn).本文以寫(xiě)好光柵結(jié)構(gòu)的電子束光刻膠層為母模板,獲得聚二甲基硅氧烷軟模板,并以此為模板對(duì)共軛高分子聚(9,9-二辛基)芴薄膜進(jìn)行納米壓印,實(shí)現(xiàn)光柵結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移,成功制備出納米光柵結(jié)構(gòu)的共軛高分子薄膜.偏振吸收譜和透射電鏡結(jié)果表明,納米壓印實(shí)現(xiàn)圖案轉(zhuǎn)移的同時(shí),還可以將共軛高分子的主鏈控制在光柵條紋方向,這將對(duì)有機(jī)發(fā)光器件性能的提升具有重要的意義.研究結(jié)果還表明,應(yīng)用該方法同樣可以對(duì)聚(9,9-二辛基芴共苯并噻二唑)薄膜進(jìn)行光柵圖案化,同時(shí)實(shí)現(xiàn)其取向控制.
