編號(hào)：NMJS05041
篇名：不同厚度二維VN插入層對(duì)TiSiN納米復(fù)合膜微觀結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能的影響
作者：薛增輝； 李偉； 劉平； 馬鳳倉(cāng)； 劉新寬； 陳小紅； 何代華；
關(guān)鍵詞：TiSiN納米復(fù)合膜； VN插入層； 微觀結(jié)構(gòu)； 力學(xué)性能；
機(jī)構(gòu)： 上海理工大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院； 上海理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院；
摘要： 采用TiSi復(fù)合靶與V靶,用射頻磁控濺射工藝在TiSiN納米復(fù)合膜中插入不同厚度的VN納米層,采用X射線衍射儀(XRD)、高分辨透射電子顯微鏡(HRTEM)和納米壓痕儀研究了VN插入層厚度對(duì)TiSiN納米復(fù)合膜的微觀結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能的影響。結(jié)果表明:當(dāng)TiSiN納米復(fù)合膜中插入VN納米層厚度較小時(shí),薄膜由納米復(fù)合結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變成納米多層結(jié)構(gòu),薄膜硬度降低。繼續(xù)增加VN層厚度,薄膜硬度隨之升高,在VN沉積層厚為0.5 nm時(shí)薄膜出現(xiàn)連續(xù)貫穿多層納米層、結(jié)晶度良好的柱狀晶,TiSiN層與VN層呈共格外延生長(zhǎng)的結(jié)構(gòu),薄膜硬度達(dá)到37.2 GPa。隨著VN層厚的繼續(xù)增加,薄膜的共格外延生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)消失,硬度下降。
