編號：NMJS04934
篇名：不同退火條件對納米多孔氧化鋁薄膜光致發(fā)光的影響
作者：謝寧； 馬凱迪； 沈異凡； 王倩
關(guān)鍵詞： 納米多孔氧化鋁薄膜； 光致發(fā)光； 發(fā)光中心； 退火； 光譜分析；
機構(gòu)： 新疆大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院
摘要： 以草酸為電解液,采用二次陽極氧化法制備出了納米多孔氧化鋁薄膜,經(jīng)不同退火溫度和退火氣氛處理氧化鋁薄膜后,通過分析其光致發(fā)光光譜得出:相同的退火氣氛中,退火溫度了T≤600℃時,T=500℃具有最大的光致發(fā)光強度;退火溫度了≥700℃時,隨著退火溫度的升高,樣品的發(fā)光強度增大。在不同的退火氣氛中,多孔氧化鋁薄膜隨著退火溫度的升高,發(fā)光峰位改變不同,即在空氣中退火處理后,隨著退火溫度的升高,發(fā)光峰位藍移,而在真空中退火處理后,發(fā)光峰位并不隨退火溫度的升高而變化;通過對1 100℃高溫退火處理后的氧化鋁薄膜的光致發(fā)光曲線的高斯擬合,可以看出,經(jīng)退火處理后的多孔氧化鋁,主要存在三個發(fā)光中心,發(fā)光曲線在350~600 nm范圍內(nèi)對應(yīng)三個發(fā)射峰,發(fā)射波長分別為387,410,439 nm。相同的退火溫度下,空氣中退火得到的氧化鋁薄膜的光致發(fā)光強度大于真空中退火處理后的氧化鋁薄膜。基于實驗結(jié)果,結(jié)合X射線色散能譜(EDS)、紅外反射光譜等表征手段,探討了多孔氧化鋁薄膜的發(fā)光機制,并對經(jīng)過不同退火條件得到的多孔氧化鋁薄膜的光致發(fā)光特性的改變做出了合理的解釋。
