編號：CPJS02198
篇名：HQDEA-DMMDA型聚醚酰亞胺/二氧化硅混合基質(zhì)膜的制備及其氣體分離性能研究
作者：張立秋； 任吉中； 李暉； 趙丹； 鄧麥村；
關(guān)鍵詞：HQDEA-DMMDA型聚醚酰亞胺； 疏水型氣相二氧化硅TS-530； 混合基質(zhì)膜； 氣體分離；
機(jī)構(gòu)： 中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所；
摘要： 以HQDEA-DMMDA新型聚醚酰亞胺(PEI)為基質(zhì)膜材料,疏水型氣相二氧化硅TS-530為填料,將TS-530分散到聚醚酰亞胺溶液中并采用流涎成膜方法,制備出不同質(zhì)量比PEI/TS-530混合基質(zhì)膜.與PEI膜相比,TS-530粒子的加入改變了聚合物鏈段的堆砌,增加了有效自由體積,使H2、CH4、N2、O2以及CO2的滲透系數(shù)都得到了增加,同時CO2對CH4、N2以及O2對N2的選擇性均未發(fā)生較大程度的改變.隨TS-530濃度增加,分子動力學(xué)直徑越大的氣體其滲透系數(shù)、擴(kuò)散系數(shù)提升幅度越大,這與Maxwell模型發(fā)生了較大的偏離,而溶解系數(shù)的變化則取決于極性醚氧基團(tuán)含量以及界面吸附作用.
