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        直接電化學(xué)還原固態(tài)二氧化硅制備硅的研究進(jìn)展

        編號:FTJS04387

        篇名:直接電化學(xué)還原固態(tài)二氧化硅制備硅的研究進(jìn)展

        作者:李偉; 肖方明; 王英; 唐仁衡; 肖志平

        關(guān)鍵詞:FFC-劍橋工藝; 二氧化硅; 熔鹽; 硅

        機(jī)構(gòu): 廣東省工業(yè)技術(shù)研究院(廣州有色金屬研究院);

        摘要: 對熔鹽中直接電化學(xué)還原(FFC法)固態(tài)二氧化硅制備硅的基本原理進(jìn)行了介紹,對相關(guān)研究進(jìn)展進(jìn)行了評述,并指出該法實(shí)現(xiàn)工業(yè)化存在的問題.

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