編號(hào)：NMJS04855
篇名：納米碳化硅拋光液的制備及其對(duì)藍(lán)寶石晶片拋光性能的研究
作者：熊偉； 儲(chǔ)向峰； 董永平； 張王兵； 葉明富； 孫文起
關(guān)鍵詞：SiC； 藍(lán)寶石晶片； 化學(xué)機(jī)械拋光； 分散劑
機(jī)構(gòu)： 安徽工業(yè)大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院
摘要： 制備了一種納米SiC拋光液,用透射電鏡觀察其粒子形貌,通過(guò)納米粒度儀研究了分散劑種類(lèi)對(duì)懸浮液中SiC的粒徑分布和Zeta電位的影響,并用制備的拋光液對(duì)藍(lán)寶石晶片進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光。使用原子力顯微鏡觀察藍(lán)寶石晶片拋光后的表面形貌。結(jié)果表明:SiC磨料在以十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)作為分散劑的懸浮液中分散效果最好;在相同試驗(yàn)條件下,采用質(zhì)量分?jǐn)?shù)1%的SiC拋光材料的去除速率最大,為24.0 nm/min,獲得藍(lán)寶石晶片表面質(zhì)量較好,表面粗糙度R a為2.2 nm。
