編號：NMJS04688
篇名：納米SiO2雜化材料的制備及其UV固化性能研究
作者：頡俊寶； 吳建兵； 馬國章； 郝曉剛
關(guān)鍵詞：納米SiO2； KH-590； 接枝改性； 紫外光固化
機(jī)構(gòu)： 太原理工大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院； 山西省應(yīng)用化學(xué)研究所； 太原理工大學(xué)煤科學(xué)與技術(shù)教育部和山西省重點實驗室
摘要： 采用γ-巰丙基三甲氧基硅烷(KH-590)對納米SiO2改性,制備了表面含—SH基團(tuán)的納米SiO2雜化材料。采用紅外光譜(FTIR)對改性前后納米SiO2的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了分析表征,通過熱失重(TGA)分析研究了改性納米SiO2的接枝效果,研究了納米SiO2雜化材料對紫外光固化涂層性能的影響,利用photo-DSC分析了改性納米SiO2雜化材料對紫外光固化固化速率的影響。結(jié)果表明,含—SH基團(tuán)的有機(jī)物接枝到納米SiO2表面,接枝率為17.6%。與納米SiO2相比,在SiO2表面引入—SH可有效克服光固化過程的氧阻效應(yīng),同時顯著地提高了SiO2/紫外光固化雜化體系的C==C雙鍵轉(zhuǎn)化率、硬度和耐磨性能等。
