編號：NMJS04618
篇名：Al/Ni和Al/Ti納米多層薄膜制備與表征
作者：李東樂； 朱朋； 付帥； 沈瑞琪； 葉迎華； 華天麗；
關鍵詞：軍事化學與煙火技術； Al/Ni納米多層薄膜； Al/Ti納米多層薄膜； 磁控濺射； 結構表征； 熱分析；
機構： 南京理工大學； 海軍駐昆明地區(qū)軍事代表辦事處；
摘要： 用磁控濺射法制備了Al/Ni、Al/Ti納米多層薄膜。用場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)、原子力顯微鏡(AFM)和X-射線衍射儀(XRD)對其進行了結構表征和成分分析。用差示掃描量熱法(DSC)測定了納米多層薄膜的反應放熱量。結果表明:工作壓力為0.4 Pa,Al、Ni、Ti濺射功率分別為200,220,180 W條件下制備的Al/Ni、Al/Ti多層薄膜表面均勻致密,無尖銳峰,層狀結構分明,組成成分分別為Al、Ni和Al、Ti單質狀態(tài);Al/Ni、Al/Ti多層薄膜放熱量分別為1134.64,918.36 J·g-1,達到理論值的82.2%,80.7%。
