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        毫秒激光燒蝕鎳靶高效率制備NiO納米立方體

        編號:NMJS03751

        篇名:毫秒激光燒蝕鎳靶高效率制備NiO納米立方體

        作者:田飛; 安俊超; 曹宏梅; 郭世珍; 孫景

        關(guān)鍵詞:NiO納米立方體; 激光燒蝕; 高溫高壓; 表面反應(yīng); 金屬液滴;

        機(jī)構(gòu): 天津中醫(yī)藥大學(xué)中醫(yī)藥工程學(xué)院; 洛陽理工學(xué)院機(jī)電工程系; 天津大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;

        摘要: 利用長脈寬毫秒激光燒蝕浸沒在循環(huán)水中的金屬鎳靶制備了大量的氧化鎳(NiO)納米立方體,通過透射電子顯微鏡(TEM)、選區(qū)電子衍射(SAED)、X射線衍射(XRD)和能量色散譜(EDS)等手段表征了產(chǎn)物的形貌和結(jié)構(gòu).結(jié)果表明,高功率密度激光產(chǎn)生的高溫高壓條件是形成NiO納米立方體的最重要因素.激光功率密度高于104W/cm2時(shí)可以生成NiO納米立方體,當(dāng)功率高于該閾值時(shí)激光首先將鎳靶燒蝕為金屬液滴,高溫的金屬液體加熱周圍液體,并由于液體的限制效應(yīng)使得壓力進(jìn)一步升高,最后金屬液滴與液體發(fā)生表面反應(yīng)生成NiO納米立方體.

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