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        噴霧燃燒原位催化制備SnO_2納米線及其生長(zhǎng)機(jī)理

        編號(hào):NMJS03646

        篇名:噴霧燃燒原位催化制備SnO_2納米線及其生長(zhǎng)機(jī)理

        作者:孔令艷; 胡彥杰; 侯曉宇; 張玲; 李春忠;

        關(guān)鍵詞:噴霧燃燒; 納米線; 納米顆粒;

        機(jī)構(gòu): 華東理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院; 華東理工大學(xué)超細(xì)材料制備與應(yīng)用教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;

        摘要: 采用噴霧燃燒的方法,以HAuCl4在高溫火焰中原位分解生成的Au納米顆粒為催化劑,以SnCl4.5H2O為錫源,簡(jiǎn)單、快速地制備高度結(jié)晶的SnO2納米線;利用X射線衍射、透射電鏡和選區(qū)電子衍射等對(duì)制備的納米線進(jìn)行表征;研究SnO2納米線的晶格間距和晶體的生長(zhǎng)方向,提出高溫火焰快速反應(yīng)過(guò)程中Au納米顆粒催化SnO2納米線的生長(zhǎng)機(jī)理。結(jié)果表明,制備的SnO2納米線為正方晶系的金紅石型氧化錫單晶結(jié)構(gòu),直徑為15~25 nm,長(zhǎng)度在幾百納米到幾微米之間。

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