編號：FTJS03689
篇名：等離子噴涂MoS_2/Cu基復合涂層真空摩擦磨損性能
作者：甄文柱； 梁波；
關鍵詞：等離子噴涂； MoS2； Cu基復合涂層； 真空摩擦；
機構： 燕山大學亞穩(wěn)材料制備技術與科學國家重點實驗室；
摘要： 以MoS2/Cu復合粉體為原料,采用等離子噴涂技術在2A12鋁合金基體上制備MoS2/Cu基復合涂層。運用掃描電鏡、能譜、X射線衍射、拉曼光譜等手段對涂層顯微結構、磨損表面進行表征,并利用GTM-3E球盤式真空摩擦磨損儀探討真空環(huán)境下MoS2/Cu基復合涂層的摩擦行為。結果表明:MoS2顆粒均勻分布于涂層中;涂層結構比較致密且與鋁基體結合牢固;XRD分析表明復合涂層物相組成主要為Cu,MoS2相及Cu2O相。實驗條件下復合涂層表現(xiàn)出優(yōu)異的真空減摩效果,涂層的真空摩擦因數(shù)在0.05～0.15之間。真空磨損過程中,MoS2自潤滑膜層的形成是涂層低摩擦因數(shù)的主要原因;真空磨損機理主要表現(xiàn)為疲勞磨損和脆性斷裂。
