編號：NMJS03305
篇名：常壓下用金屬有機化學(xué)氣相沉積法在HP40鋼表面制備納米氧化鋁薄膜及表征
作者：黃志榮； 李攀瑜；
關(guān)鍵詞：金屬有機化學(xué)氣相沉積法； 氧化鋁； 沉積速率； 納米薄膜；
機構(gòu)： 華東理工大學(xué)機械與動力工程學(xué)院；
摘要： 常壓下用金屬有機化學(xué)氣相沉積法（MOCVD）,以仲丁醇鋁（ATSB）為前驅(qū)體、氮氣為載氣在HP40鋼表面制備了納米氧化鋁薄膜;用光學(xué)顯微鏡、掃描電子顯微鏡及能譜儀、X射線衍射儀、原子力顯微鏡等研究了沉積溫度等參數(shù)對氧化鋁薄膜沉積速率的影響,并對其形貌進行了觀察。結(jié)果表明:隨著沉積溫度從503K升高到713K,薄膜沉積速率從0.1mg·cm-2·h-1增加到0.82mg·cm-2·h-1;當(dāng)沉積溫度在593～653K范圍內(nèi),可獲得晶粒尺寸為10～15nm的納米氧化鋁薄膜;反應(yīng)的表觀活化能隨氮氣與ATSB蒸氣混合氣流速增加而降低,不同的混合氣流速有不同的反應(yīng)級數(shù),ATSB的反應(yīng)級為0.7±0.02。
