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   研磨利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過研具與工件在一定壓力下的相對運動對加工表面進行的精整加工(如切削加工)。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。加工精度可達IT5~01，表面粗糙度可達Ra0.63~0.01微米。

         拋光是利用機械、化學(xué)或電化學(xué)的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法。 兩者的主要區(qū)別在于:拋光達到的表面光潔度要比研磨更高，并且可以采用化學(xué)或者電化學(xué)的方法，而研磨基本只采用機械的方法，所使用的磨料粒度要比拋光用的更粗，即粒度大。

         對于表面光潔度來說，拋光的表面光潔度比研磨的要更高一些。其實拋光液可以說是研磨的后道工序，可以在同一平面拋光劑機上同時實現(xiàn)研磨和拋光。研磨分為粗磨，精磨; 拋光則分為，粗拋，精拋。很多時候我們都是三道工序來進行產(chǎn)品表面質(zhì)量的加工：粗磨、精磨、精拋。在進行了這三道工序之后，工件表面的平面度，平行度，粗糙度就相當高了。有些客戶對于工件的精度要求就沒有那么高了，特別是粗糙度沒那么高就只采用前兩道工序，或者精磨這一道工序。具體還是要看客戶工件本身的質(zhì)量，以及客戶要達到的工件要求。

        研磨和拋光可以在同一平面拋光機上實現(xiàn)，但是所有的配置與耗材卻不一樣。研磨需要用研磨盤和研磨液，拋光則是用拋光液和拋光盤，拋光布輪等耗材。所以在一臺平面拋光機上實現(xiàn)研磨和拋光時需要研磨盤，液體等耗材。