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安東帕很自豪地宣布推出HTK 1500 高溫腔室，這是原位高溫 X 射線衍射（XRD）環(huán)境加熱腔室的新標桿。

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產(chǎn)品介紹

HTK 1500 允許將多種類型的樣品材料（包括粉末和塊狀樣品）在不降低精度的情況下均勻加熱至1500°C。

HTK 1500 以其卓越的溫度精度和穩(wěn)定性脫穎而出。加熱棒的位置和高精度溫度測量確保了從25°C到1500°C的持續(xù)加熱。這種智能設計，結合先進的加熱器和絕緣材料，使其成為陶瓷、金屬等材料高溫應用的理想選擇。在高溫且需要滿足高精度的情況下，無論是確定晶格參數(shù)還是熱膨脹系數(shù)，以及測量溫度引起的相變和反應，這都是最佳選擇。

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產(chǎn)品優(yōu)勢

• 獨特的環(huán)境加熱器設計，實現(xiàn)均勻的溫度分布

• 反射幾何與透射幾何之間的輕松切換

• 多種樣品類型和氣體環(huán)境

• 與 XRDynamic 500 完美集成

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應用領域

• 熱膨脹系數(shù)

• 動態(tài)結構變化

• 相圖研究

• 測定晶格常數(shù)