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        HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部

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        一文了解光學(xué)測(cè)量設(shè)備——橢偏儀

        一文了解光學(xué)測(cè)量設(shè)備——橢偏儀
        HORIBA  2022-08-02  |  閱讀:7102

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        器件的制造是通過(guò)一系列精確控制的加工工藝完成的,為了保證每步工序都能正確地進(jìn)行,在每一個(gè)工藝步驟中都有許多測(cè)量和監(jiān)控技術(shù),其中光學(xué)測(cè)量由于其非接觸、無(wú)破壞、無(wú)污染的特點(diǎn)被廣泛使用。

        其中,光學(xué)測(cè)量的一項(xiàng)重要內(nèi)容是薄膜特性———例如厚度和光學(xué)性質(zhì)。目前,常用的光學(xué)測(cè)量技術(shù)根據(jù)其原理可分為: 光吸收法、干涉監(jiān)控法、偏振光分析法等。

        今天小編為大家介紹的這款橢偏儀采用偏振光分析法也稱為橢圓偏振光譜測(cè)量技術(shù)),該方法是利用偏振光在材料表面反射后,相應(yīng)偏振態(tài)的改變來(lái)測(cè)量該材料的光學(xué)性質(zhì)。

        橢偏儀概況

        橢偏儀是一種用于探測(cè)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備。由于并不與樣品接觸,對(duì)樣品沒(méi)有破壞且不需要真空,使得橢偏儀成為一種極具吸引力的測(cè)量設(shè)備。

        橢偏儀應(yīng)用

        橢偏儀可測(cè)的材料包括:半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機(jī)物、金屬、多層膜物質(zhì)。

        橢偏儀涉及領(lǐng)域有:半導(dǎo)體、通訊、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥等。

        橢偏法測(cè)量?jī)?yōu)點(diǎn)

        1、能測(cè)量很薄的膜(1nm),且精度很高,比干涉法高1~2個(gè)數(shù)量級(jí)。

        2、是一種無(wú)損測(cè)量,不必特別制備樣品,也不損壞樣品,比其他精密方法如稱重法、定量化學(xué)分析法簡(jiǎn)便。

        3、可同時(shí)測(cè)量膜的厚度、折射率以及吸收率。因此可以作為分析工具使用。

        4、對(duì)一些表面結(jié)構(gòu)、表面過(guò)程和表面反應(yīng)相當(dāng)敏感,是研究表面物理的一種方法。

        橢偏儀的分類及介紹

        橢偏儀按照測(cè)試原理的不同,主要分為消光式和光度式兩類。大體可以分為PCSA 型消光式橢偏儀、旋轉(zhuǎn)偏振器件型橢偏儀、相位調(diào)制型橢偏儀、橢偏光譜儀、紅外橢偏光譜儀、成像橢偏儀和廣義橢偏儀。

        橢偏儀廠家介紹

        今天,小編為大家介紹的這家橢偏儀廠家——HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部,公司總部自1953年成立,是一家分析檢測(cè)儀器和設(shè)備制造商,并且以其高精尖的產(chǎn)品成功地將市場(chǎng)拓展到了全球各個(gè)國(guó)家和地區(qū)。

        圖片1.png

        HORIBA 研究級(jí)全自動(dòng)橢偏儀UVISEL 2

        技術(shù)參數(shù):

        光譜范圍:190-2100 nm

        8種光斑尺寸: 小35 X 85 um

        探測(cè)器:3個(gè)獨(dú)立探測(cè)器,分別優(yōu)化紫外,可見(jiàn)和近紅外

        自動(dòng)樣品臺(tái)尺寸:200mm X 200mm;XYZ方向自動(dòng)調(diào)節(jié); Z軸高度>35mm

        樣品水平度自動(dòng)調(diào)整

        自動(dòng)量角器:變角范圍35°- 90°,全自動(dòng)調(diào)整,小步長(zhǎng)0.01°

        圖片2.png

        HORIBA一鍵式全自動(dòng)快速橢偏儀 Auto SE

        主要特點(diǎn)

        1. 液晶調(diào)制技術(shù),無(wú)機(jī)械轉(zhuǎn)動(dòng)部件,重復(fù)性,信噪比高

        2. 技術(shù)成像技術(shù),所有樣品均可成像,對(duì)于透明樣品,自動(dòng)去除樣品的背反射信號(hào),使得數(shù)據(jù)分析更簡(jiǎn)單

        3. 反射式微光斑,覆蓋全譜段,利于非均勻樣品圖案化樣品測(cè)試

        4. 全自動(dòng)集成度高,安裝維護(hù)簡(jiǎn)便

        5. 一鍵式操作軟件,快速簡(jiǎn)單

        6. 自動(dòng)MAPPING掃描,分析樣品鍍膜均勻性

        技術(shù)參數(shù)

        1. 光譜范圍:450-1000 nm

        2. 多種微光斑自動(dòng)選擇

        3. 光斑可視技術(shù),可觀測(cè)任何樣品表面

        4. 自動(dòng)樣品臺(tái)尺寸:200mmX200mm;XYZ方向自動(dòng)調(diào)節(jié); Z軸高度>35mm

        5. 70度角入射

        6. CCD探測(cè)器

        參考資料:

        朱緒丹等.《橢圓偏振光譜測(cè)量技術(shù)及其在薄膜材料研究中的應(yīng)用》HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部

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