中國粉體網訊  鈰基拋光粉被譽為“拋光粉之王”，具有拋光效率高、粒度均一、硬度適中、拋光質量好等優(yōu)點，其拋光能力與氧化鈰的含量、自身物理化學性質（粘度、活性）等密切相關。目前的研究表明采用納米氧化鈰作為CMP磨料，在拋光效率及效果上均優(yōu)于其他產品。

相對比其他磨料，氧化鈰一般不溶于堿，在堿性拋光條件下呈兩性性質，能同時吸附陰、陽離子，能夠與堿很好配合拋光。由于CeO₂拋光液拋光效率高，一般可達到0.8～1.5μm/min，而且粒子懸浮性好，拋光后易清理，因此通用性很強，常用于精密光學元件、晶體和藍寶石等的精密拋光過程，同時還可用于多重擴散硅片（儲存器硬盤基片）的高精度拋光，還可用于擴散片的拋光過程。

但當前技術下，工業(yè)生產出的CeO₂磨粒形貌不規(guī)則、粒度分布范圍大，使得拋光質量不穩(wěn)定。值得注意的是，當采用氧化鈰拋光粉作為磨料制備拋光液，分散懸浮穩(wěn)定性是重中之重，否則粒子較易團聚，容易導致工件劃傷；同時由于懸浮清洗性能不好，拋光液磨料損耗快，容易粘附在工件及機臺表面，使磨料沉底結塊，研磨拋光效率降低；另外拋光后工件表面殘留拋光粉多，難以清洗，為后段正常生產帶來困難。

針對這些問題，有研稀土圍繞CeO₂拋光材料的可控制備開展了系統(tǒng)研究。采用原位分析、跨尺度表征等多種手段，明確了CeO₂的形核生長機理，開發(fā)出不同形貌、尺寸和表面特性的納米CeO₂的合成方法和可控制備技術，揭示了CeO₂物相、結構與形貌的演變規(guī)律，制備出系列易分散的納米氧化鈰粉體和拋光液，并在多家企業(yè)開展應用評價和小批量應用，展示出優(yōu)異的應用效果和應用前景。

2024年7月9日，中國粉體網將在鄭州舉辦“2024高端研磨拋光材料技術大會”，屆時，有研稀土新材料股份有限公司高級研發(fā)主管王寧將帶來《納米鈰基拋光材料及其在半導體領域的應用進展》的報告，報告將介紹有研稀土在氧化鈰拋光液的相關研究，揭示了CeO₂物相、結構與形貌的演變規(guī)律，制備出系列易分散的納米氧化鈰粉體和拋光液。

（中國粉體網編輯整理/空青）

注：圖片非商業(yè)用途，存在侵權告知刪除