中國(guó)粉體網(wǎng)訊 陶瓷膜具有耐高溫、機(jī)械強(qiáng)度大、分離效率高、結(jié)構(gòu)穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)，日漸受人們的重視，在氣體過(guò)濾、污水處理、食品、制藥、精細(xì)化工等行業(yè)應(yīng)用廣泛。
來(lái)源： 久吾高科
當(dāng)前開(kāi)發(fā)和應(yīng)用的陶瓷膜主要有氧化鋁、氧化鋯、碳化硅、氧化硅、二氧化鈦等材質(zhì)，其物相構(gòu)成有單一相的，也有復(fù)合相的。不同原料制備的陶瓷膜，孔徑大小也有很大的差別，目前，氧化鋁陶瓷膜和碳化硅陶瓷膜孔徑大小已經(jīng)優(yōu)化到了3nm左右，但直觀表征很困難。
氧化鋁陶瓷膜制備工藝
1、支撐體的制備工藝
陶瓷膜要想在工業(yè)中得到應(yīng)用，需要將膜和多孔陶瓷組裝在一起，多孔陶瓷作支撐體。支撐體一般選用氧化鋁、二氧化鈦、碳化硅等材質(zhì)，在形式上主要是管式、平板式和多通道式，支撐體的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和類(lèi)型會(huì)影響陶瓷膜的分離效率。
在眾多材質(zhì)中，氧化鋁是近年來(lái)國(guó)內(nèi)外研究及應(yīng)用最為廣泛的一種陶瓷膜材料。氧化鋁陶瓷支撐體的成型技術(shù)主要有干壓成型、擠出成型法、注漿成型法、流延成型法等。
干壓成型是實(shí)驗(yàn)室最常用的方法，對(duì)有陶瓷粉末的金屬模具施加壓力，壓制成陶瓷生坯，高溫煅燒得到陶瓷樣品，此方法制得的陶瓷支撐體形狀簡(jiǎn)單，常為片狀樣品，是制備平板狀支撐體的理想方法。
擠出成型是目前工業(yè)化生產(chǎn)陶瓷膜支撐體最常用的方法，多用于大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)管狀、蜂窩狀陶瓷樣品，國(guó)內(nèi)外許多研究機(jī)構(gòu)和生產(chǎn)廠商多采用此工藝制備支撐體。
流延成型主要用來(lái)制備薄的平板陶瓷膜支撐體，平均孔徑一般在0.2-1.0μm，該方法需要制備出合適的流延漿料才能進(jìn)行。
注漿成型是一種非常簡(jiǎn)便且靈活性很強(qiáng)的成形技術(shù)，但此工藝難以制備出多通道支撐體，加之工藝本身存在著漿料、孔徑分布不易控制及存在針孔、開(kāi)裂等缺陷問(wèn)題，故很少用在工業(yè)生產(chǎn)中。
除了制備方法之外，氧化鋁陶瓷支撐體的高滲透性往往取決于孔隙率、孔形態(tài)以及孔曲折程度。為提高陶瓷膜支撐體的孔隙率通常需要添加適當(dāng)?shù)脑炜讋�，造孔劑的種類(lèi)、添加量及加入方式對(duì)支撐體孔徑影響很大。選擇與原料粒徑相當(dāng)?shù)脑炜讋┣乙浴八芤骸钡姆绞郊尤霑r(shí)制得的支撐體性能較好。
2、分離層的制備工藝
陶瓷膜可分為對(duì)稱(chēng)膜和非對(duì)稱(chēng)膜兩種，對(duì)稱(chēng)陶瓷膜是在是支撐體上制備一層孔徑為微米級(jí)的陶瓷膜，可直接用于工業(yè)過(guò)濾、除塵、汽車(chē)尾氣等。
制備對(duì)稱(chēng)陶瓷膜兩層結(jié)構(gòu)的原料粒徑要很相近，如果直接將小粒徑的分離膜層涂覆于支撐體上，由于分離膜層的粒徑過(guò)小，容易直接滲入支撐體中，造成支撐體孔隙堵塞，不能形成完整的小孔徑分離膜層，對(duì)膜的通透性造成不良影響，所以就需要先制備中間過(guò)渡層，再在其表面涂覆更小孔徑的分離膜層，形成三層結(jié)構(gòu)的非對(duì)稱(chēng)陶瓷膜。
非對(duì)稱(chēng)陶瓷膜的結(jié)構(gòu)示意圖
非對(duì)稱(chēng)陶瓷膜中，支撐體提供機(jī)械支撐強(qiáng)度，孔徑1-20μm；中間過(guò)渡層連接支撐體和分離層，孔徑一般為1-5μm；分離膜層要求具有良好的分離效率，孔徑一般為0.8nm-1μm。
分離膜的制備工藝主要有溶膠凝膠工藝、陽(yáng)極氧化工藝、水熱合成工藝、化學(xué)氣相沉積工藝（CVD）、反膠團(tuán)微乳液工藝等，涂膜工藝主要有流延成型、浸漬、噴涂、噴涂 - 浸涂結(jié)合等。
浸漬涂膜法是將支撐體浸沒(méi)于有一定黏度的溶膠或粉末懸浮液中，以合適的速率提拉，干燥煅燒即可得到分離膜層，此方法具有操作簡(jiǎn)單、成本低、成膜性能好等優(yōu)勢(shì)，得到了廣泛的工業(yè)應(yīng)用。
溶膠-凝膠法可制備納米級(jí)孔徑的陶瓷膜，但是存在燒結(jié)不易致密的問(wèn)題。
化學(xué)氣相沉積工藝（CVD）可以實(shí)現(xiàn)對(duì)微孔膜的孔徑調(diào)控形成致密膜，并且可以在復(fù)雜形狀的支撐體表面形成膜。但該方法操作復(fù)雜，設(shè)備昂貴，不適合商業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)。
陽(yáng)極氧化是利用電化學(xué)原理在支撐體表面形成膜，最常見(jiàn)用于Al2O3和TiO2分離膜的制備。由于設(shè)備限制，該法不適合在工業(yè)上大規(guī)模使用。
陶瓷膜孔徑檢測(cè)方法
陶瓷膜孔徑大小及分布、純水通量、氣體通量、切割分子量、離子截留率等是最主要的性能表征�？讖酱笮『涂讖椒植伎梢灾庇^反映陶瓷膜的技術(shù)水平，純水通量和離子截留率能直接評(píng)價(jià)陶瓷膜的滲透性能。
目前主要的檢測(cè)方法有以下幾種：
1）電子顯微鏡法（直觀、量取方便，容易有偏差）
2）泡點(diǎn)法（使用較早，范圍較廣）
3）液-液置換法（比泡點(diǎn)法更容易測(cè)到小孔徑的膜）
4）壓貢法（陶瓷膜測(cè)試中常見(jiàn)表征手段）
5）BJH氮?dú)馕矫摳椒ǎㄖ荒軠y(cè)量非支撐陶瓷膜的孔徑分布）
6）溶質(zhì)截留法
7）滲透孔度計(jì)法
隨著氧化鋁陶瓷膜的發(fā)展，氧化鋁陶瓷膜孔徑的優(yōu)化方法也越來(lái)越多，開(kāi)發(fā)滲透性能更好地氧化鋁陶瓷膜是廣大研究者關(guān)注的熱點(diǎn)，大孔和介孔氧化鋁陶瓷膜的制備技術(shù)越來(lái)越成熟。但目前尚無(wú)一種有效表征 手段可以全面直觀地檢測(cè)到膜的孔徑大小及其分布。
未來(lái)，開(kāi)發(fā)更新的氧化鋁陶瓷膜原料、利用微觀理論制備小孔且滲透性能更好地親水陶瓷膜和探索新的孔徑檢測(cè)手段，是氧化鋁陶瓷膜技術(shù)領(lǐng)域未來(lái)的發(fā)展方向。
參考來(lái)源：
李婧等：氧化鋁陶瓷膜孔徑檢測(cè)方法研究進(jìn)展
王峰等：多孔陶瓷膜支撐體的制備研究進(jìn)展
孟凡朋等：擠出法制備陶瓷膜支撐體工藝過(guò)程及影響因素研究進(jìn)展
周洋：納米孔徑可控陶瓷膜的制備與應(yīng)用基礎(chǔ)研究
（中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/空青）
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