中國(guó)粉體網(wǎng)訊  50 mm，是什么概念?一本字典的厚度、一個(gè)火柴盒的長(zhǎng)度……對(duì)于日常生活而言，50 mm或許沒(méi)有那么起眼，但是對(duì)于碳化硅單晶厚度來(lái)說(shuō)，這個(gè)數(shù)值卻不一般！

50 mm厚6英寸（150 mm）碳化硅單晶錠和襯底片

近日，浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心先進(jìn)半導(dǎo)體研究院-乾晶半導(dǎo)體聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室和浙江大學(xué)硅材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室在浙江省“尖兵計(jì)劃”等研發(fā)項(xiàng)目的資助下，成功生長(zhǎng)出了厚度達(dá)到50 mm的6英寸碳化硅單晶（圖1），這在國(guó)內(nèi)尚屬首次報(bào)道。該重要進(jìn)展意味著，碳化硅襯底成本有望大幅降低，半導(dǎo)體碳化硅產(chǎn)業(yè)發(fā)展或?qū)⒂瓉?lái)發(fā)展新契機(jī)。

厚度翻一番！碳化硅單晶高成本有望降低

碳化硅（SiC）單晶作為寬禁帶半導(dǎo)體材料，對(duì)高壓、高頻、高溫及高功率等半導(dǎo)體器件的發(fā)展至關(guān)重要。當(dāng)前，碳化硅單晶的高成本是制約各種碳化硅半導(dǎo)體器件大規(guī)模應(yīng)用和發(fā)展的主要因素。為了降低碳化硅單晶的成本，擴(kuò)大其直徑和增加其厚度是行之有效的途徑。  

目前，國(guó)內(nèi)碳化硅單晶的直徑已經(jīng)普遍能達(dá)到6英寸，但其厚度通常在~20-30 mm之間，導(dǎo)致一個(gè)碳化硅晶錠切片所獲得的碳化硅襯底片的數(shù)量相當(dāng)有限。

那么如何才能增加厚度？難點(diǎn)又在哪里？科研人員表示，增加碳化硅單晶厚度的主要挑戰(zhàn)在于其生長(zhǎng)時(shí)厚度的增加及源粉的消耗對(duì)生長(zhǎng)室內(nèi)部熱場(chǎng)的改變。針對(duì)挑戰(zhàn)，浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心先進(jìn)半導(dǎo)體研究院-乾晶半導(dǎo)體聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室和浙江大學(xué)硅材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室通過(guò)設(shè)計(jì)碳化硅單晶生長(zhǎng)設(shè)備的新型熱場(chǎng)、發(fā)展碳化硅源粉的新技術(shù)、開(kāi)發(fā)碳化硅單晶生長(zhǎng)的新工藝，顯著提升了碳化硅單晶的生長(zhǎng)速率，成功生長(zhǎng)出了厚度達(dá)到50 mm的6英寸碳化硅單晶。

該厚度的實(shí)現(xiàn)，一方面節(jié)約了昂貴的碳化硅籽晶的用量，另一方面使一個(gè)碳化硅單晶錠切片所獲得的碳化硅襯底片數(shù)量能夠翻倍，所以能夠大幅降低碳化硅襯底的成本，有望有力推動(dòng)半導(dǎo)體碳化硅產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

厚度增加了，品質(zhì)能得到保證嗎？科研人員通過(guò)對(duì)生長(zhǎng)的碳化硅單晶錠切片所得的碳化硅襯底片（圖1）進(jìn)行分析，發(fā)現(xiàn)其晶型為4H，典型的（0004）晶面的X射線衍射峰的半高寬均值為18.47弧秒，總位錯(cuò)為5048/cm-2（圖2）。以上結(jié)果均表明碳化硅單晶的晶體質(zhì)量達(dá)到了業(yè)界水平。

  6英寸碳化硅襯底片的（0004）晶面的X射線衍射峰和位錯(cuò)分析結(jié)果

合力攻關(guān)，破解難題 

浙江省黨代會(huì)報(bào)告提出，推進(jìn)創(chuàng)新鏈產(chǎn)業(yè)鏈深度融合，要加快構(gòu)建現(xiàn)代科創(chuàng)體系和產(chǎn)業(yè)體系。如何發(fā)揮浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心優(yōu)勢(shì)資源，助力破解共性技術(shù)難題？浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心一直在探索。

浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心一直致力于推進(jìn)產(chǎn)學(xué)研深度融合，加深與企業(yè)合作，鏈接全球創(chuàng)新資源，開(kāi)展高水平高質(zhì)量成果轉(zhuǎn)化，共建創(chuàng)新聯(lián)合體。目前，中心已與10余家企業(yè)共建創(chuàng)新聯(lián)合體，浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心先進(jìn)半導(dǎo)體研究院-乾晶半導(dǎo)體聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室就是其中之一。

本次成果由浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心先進(jìn)半導(dǎo)體研究院-乾晶半導(dǎo)體聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室和浙江大學(xué)硅材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室共同完成，正是科技創(chuàng)新聯(lián)動(dòng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新的體現(xiàn)。面對(duì)產(chǎn)業(yè)高度關(guān)心的碳化硅單晶成本問(wèn)題，研究團(tuán)隊(duì)以碳化硅單晶厚度為關(guān)注點(diǎn)，充分整合浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心先進(jìn)半導(dǎo)體研究院和浙江大學(xué)硅材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室優(yōu)勢(shì)資源進(jìn)行了合力攻關(guān)，并取得階段性成果，為半導(dǎo)體碳化硅技術(shù)的發(fā)展貢獻(xiàn)了力量。

浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心（簡(jiǎn)稱(chēng)科創(chuàng)中心）是新時(shí)代浙江大學(xué)和杭州市全面深化市校戰(zhàn)略合作共建的重大科技創(chuàng)新平臺(tái)�？苿�(chuàng)中心以打造世界一流水平，引領(lǐng)未來(lái)發(fā)展的全球頂尖科技創(chuàng)新中心為目標(biāo)，面向國(guó)家重大戰(zhàn)略、區(qū)域發(fā)展重大需求和國(guó)際科學(xué)前沿，聚焦物質(zhì)科學(xué)、信息科學(xué)、生命科學(xué)的會(huì)聚融通，打通前沿科學(xué)研究、顛覆性技術(shù)研發(fā)和成果產(chǎn)業(yè)化的全鏈條，是浙江省建設(shè)高水平創(chuàng)新型省份、打造科創(chuàng)高地的重大標(biāo)志性工程。

浙江大學(xué)硅材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室是國(guó)內(nèi)最早建立的國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室之一。以重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室為依托的浙江大學(xué)材料物理與化學(xué)學(xué)科（原半導(dǎo)體材料學(xué)科）一直是全國(guó)重點(diǎn)學(xué)科，1978年獲批國(guó)內(nèi)首批碩士點(diǎn)（半導(dǎo)體材料），1985年獲批了國(guó)內(nèi)第一個(gè)半導(dǎo)體材料工學(xué)博士點(diǎn)。目前實(shí)驗(yàn)室在半導(dǎo)體硅材料、先進(jìn)半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體材料微結(jié)構(gòu)與物理三個(gè)主要研究方向上開(kāi)展工作。實(shí)驗(yàn)室正在積極參與科創(chuàng)中心的建設(shè)，啟動(dòng)了以碳化硅和氧化鎵等為代表的先進(jìn)半導(dǎo)體材料研究。

（中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/山川）

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