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        氧化鋁陶瓷在半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備中的應(yīng)用研究概述


        來(lái)源:中國(guó)粉體網(wǎng)   平安

        [導(dǎo)讀]  對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備的研制,部件所使用的材料是影響設(shè)備性能的關(guān)鍵因素

        中國(guó)粉體網(wǎng)訊  對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備的研制,部件所使用的材料是影響設(shè)備性能的關(guān)鍵因素。特別是對(duì)于晶圓制造過(guò)程中的刻蝕機(jī)和PECVD設(shè)備,等離子體通過(guò)物理作用和化學(xué)反應(yīng)會(huì)對(duì)設(shè)備器件表面造成嚴(yán)重腐蝕,一方面縮短部件的使用壽命,降低設(shè)備的使用性能,另一方面腐蝕過(guò)程中產(chǎn)生的反應(yīng)產(chǎn)物會(huì)出現(xiàn)揮發(fā)和脫落的現(xiàn)象,在工藝腔內(nèi)產(chǎn)生雜質(zhì)顆粒,影響腔室的潔凈度。當(dāng)前,主要采用高純Al2O3涂層或Al2O3陶瓷作為刻蝕腔體和腔體內(nèi)部件的防護(hù)材料。



        等離子體刻蝕設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖


        隨著半導(dǎo)體器件最小特征尺寸的不斷縮小,對(duì)晶圓缺陷的要求變得更加嚴(yán)格,為了避免金屬雜質(zhì)和顆粒的污染,對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備腔體和腔體內(nèi)的部件材料提出了更加嚴(yán)格的要求?涛g機(jī)腔體內(nèi)耐等離子刻蝕陶瓷材料的主要特點(diǎn)有:(1)純度要高,金屬雜質(zhì)含量少;(2)主要組成成分化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,特別是與鹵素類腐蝕性氣體的化學(xué)反應(yīng)速率要低;(3)致密度高,開(kāi)口氣孔少;(4)晶粒細(xì)小,晶界相含量少;(5)具有優(yōu)良的機(jī)械性能,便于生產(chǎn)加工;(6)某些部件可能還有其他性能要求,如良好的介電性能、導(dǎo)電性或?qū)嵝缘取?br/>

        Al2O3是一種高硬度的化合物,主要的晶型是α-Al2O3、β-Al2O3、γ-Al2O3。其中,α-Al2O3是唯一熱力學(xué)穩(wěn)定的相,屬于離子型晶體,化學(xué)性能穩(wěn)定,在常溫下不受酸堿腐蝕,可以作為耐火或耐腐蝕材料。早期等離子刻蝕防護(hù)技術(shù)是在鋁基材上沉積一層致密的硬質(zhì)陽(yáng)極保護(hù)層,但由于合金中的雜質(zhì)會(huì)發(fā)生偏析,表面的陽(yáng)極氧化鋁層易產(chǎn)生微裂紋,在刻蝕過(guò)程中出現(xiàn)剝落現(xiàn)象,所以硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁的耐等離子體刻蝕性能較差。

        隨著涂層技術(shù)的發(fā)展,高純Al2O3涂層逐漸用于刻蝕機(jī)工藝腔和腔體內(nèi)部件的防護(hù)。研究者通過(guò)氣溶膠噴霧法在硅襯底上形成致密的Al2O3涂層,在高能含氟等離子中的耐刻蝕性能是單晶Si的20倍。但是由于熱膨脹系數(shù)的不同,Al2O3涂層與襯底之間容易開(kāi)裂,影響涂層的耐刻蝕性能。

        與Al2O3涂層相比,致密的高純Al2O3塊體陶瓷具有更好的耐等離子體刻蝕性能。研究人員研究了應(yīng)用在半導(dǎo)體加工設(shè)備中的Al2O3塊體的制備方法,純度要求在99%以上,金屬氧化物雜質(zhì)(如MgO,CaO,SiO2等)必須控制在0.05~0.8%之內(nèi),在不影響燒結(jié)性能的情況下可以提高其耐等離子體刻蝕性能,每100g氧化鋁的含磷量不能超過(guò)0.0025g,有利于大塊體陶瓷燒結(jié)均勻。

        傳統(tǒng)的氧化鋁燒結(jié)塊體由于內(nèi)外燒結(jié)狀態(tài)不同,導(dǎo)致密度相差很大,其介質(zhì)損耗大,在半導(dǎo)體制造設(shè)備使用過(guò)程中容易產(chǎn)生熱量,生成或擴(kuò)大微裂紋,降低耐等離子體刻蝕性能。隨著等離子功率的增大和腐蝕性較強(qiáng)的含氟刻蝕氣體的使用,Al2O3的耐腐蝕性能已經(jīng)難以滿足生產(chǎn)要求,一方面Al2O3中的Al與氟離子會(huì)反應(yīng)生成AlxFy化合物,沉積后結(jié)晶成顆粒雜質(zhì),污染晶圓;另一方面,嚴(yán)重的腐蝕會(huì)縮短部件的使用壽命。因此,不斷研究陶瓷材料的等離子體刻蝕機(jī)制對(duì)于制備耐等離子體刻蝕性能優(yōu)異的陶瓷材料具有十分重要的意義。

        參考資料:等離子體環(huán)境下陶瓷材料損傷行為研究,朱祖云,廣東工業(yè)大學(xué)

        (中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/平安)

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        作者:平安

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