中國粉體網(wǎng)訊  投資50億元，建設用地約1000畝的中國電科（山西）電子信息科技創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園即將在山西轉(zhuǎn)型綜改示范區(qū)投產(chǎn)。據(jù)報道，該項目計劃用5年時間，建成“一中心三基地”，即：中國電科(山西)碳化硅材料產(chǎn)業(yè)基地、中國電科(山西)電子裝備智能制造產(chǎn)業(yè)基地、中國電科（山西）三代半導體技術(shù)創(chuàng)新中心、中國電科（山西）光伏新能源產(chǎn)業(yè)基地。項目達產(chǎn)后，預計形成產(chǎn)值100億元。

通過吸引上游企業(yè)，形成產(chǎn)業(yè)聚集效應，打造電子裝備制造、三代半導體產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈，建成國內(nèi)最大的碳化硅材料供應基地，積極推動山西經(jīng)濟的轉(zhuǎn)型升級。

大禁帶寬度、高臨界擊穿場強、高電子遷移率、高熱導率，是第三代半導體碳化硅單晶材料最響亮的“名片”，不過，碳化硅單晶的制備一直是全球性難題，而高穩(wěn)定性的長晶工藝技術(shù)是其核心。而在中國，碳化硅單晶襯底材料長期依賴進口，其高昂的售價和不穩(wěn)定的供貨情況大大限制了國內(nèi)相關(guān)行業(yè)的發(fā)展。

據(jù)了解，自2007年，中國電科2所開始著手布局碳化硅單晶襯底材料的研制規(guī)劃，依靠自身在電子專用設備研發(fā)領(lǐng)域的技術(shù)優(yōu)勢，潛心鉆研著碳化硅單晶生長爐的研制。經(jīng)過多年的不懈努力，全面掌握了高純碳化硅粉料制備工藝、4英寸高純半絕緣碳化硅單晶襯底的制備工藝，形成了從碳化硅粉料制備、晶體生長、晶片加工、外延驗證等整套碳化硅材料研制線，在國內(nèi)最早實現(xiàn)了高純碳化硅材料、高純半絕緣晶片量產(chǎn)。

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/三昧）

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