氮化硼(BN)作為寬帶隙材料具有優(yōu)異的物理性質(zhì)和良好的化學(xué)惰性,是制作高可靠性器件與電路的理想電子材料之一。與
碳納米管的電子結(jié)構(gòu)明顯依賴于管徑與螺旋度等因素不同,BN納米管通常表現(xiàn)出穩(wěn)定一致的電學(xué)特性,在未來的納電子學(xué)領(lǐng)域有著非常誘人的應(yīng)用前景。而實(shí)現(xiàn)BN納米管的摻雜,誘導(dǎo)其半導(dǎo)體特性,是實(shí)現(xiàn)該材料在納電子學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用的關(guān)鍵,也是研究者普遍感興趣和追求目標(biāo)。
最近,中國科學(xué)院物理所微加工實(shí)驗(yàn)室的顧長(zhǎng)志研究員等人與日本物質(zhì)材料研究機(jī)構(gòu)(NIMS)的同事合作,采用化學(xué)氣相沉積方法,在生長(zhǎng)BN納米管的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了F的均勻摻雜,獲得了N型的BN半導(dǎo)體納米管。他們對(duì)F摻雜BN納米管的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了系統(tǒng)表征,證明了這是一種穩(wěn)定的摻雜結(jié)構(gòu)。為實(shí)現(xiàn)對(duì)F摻雜BN納米管本征物性的研究,他們利用電子束光刻與Lift-off微加工技術(shù),在分散提純的單根F摻雜BN上制作出用于輸運(yùn)性質(zhì)測(cè)量的微電極,研究了單根F摻雜BN納米管的電導(dǎo)特性,發(fā)現(xiàn)F摻雜實(shí)現(xiàn)了BN納米管從絕緣體向半導(dǎo)體的轉(zhuǎn)變,低于5%的F摻雜濃度使BN納米管的電導(dǎo)提高3個(gè)數(shù)量級(jí)以上。這一結(jié)果為采用該材料制作納電子器件的研究奠定了基礎(chǔ)。該成果發(fā)表在J. Am. Chem. Soc. 127,6552 (2005)上。
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