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        研磨設(shè)備生產(chǎn)商——深圳市叁星飛榮機(jī)械有限公司入駐粉享通


        來(lái)源:中國(guó)粉體網(wǎng)   粉享通

        [導(dǎo)讀]  深圳市叁星飛榮機(jī)械有限公司創(chuàng)建于1993年,二十多年一直專(zhuān)注于超細(xì)研磨及分散技術(shù)的研究和研磨設(shè)備的生產(chǎn)。

        深圳市叁星飛榮機(jī)械有限公司

        ---先進(jìn)納米材料制備專(zhuān)家

        ---高遠(yuǎn)至太空 超細(xì)于納米


        深圳市叁星飛榮機(jī)械有限公司創(chuàng)建于1993年,二十多年一直專(zhuān)注于超細(xì)研磨及分散技術(shù)的研究和研磨設(shè)備的生產(chǎn),已獲得7項(xiàng)砂磨技術(shù)方面的發(fā)明專(zhuān)利授權(quán),現(xiàn)為國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),深圳市高新技術(shù)企業(yè)。公司與華南理工大學(xué)達(dá)成戰(zhàn)略合作關(guān)系,是華南理工大學(xué)材料學(xué)院產(chǎn)學(xué)研基地。


        公司立足于客戶,奉行全心全意為客戶服務(wù)為宗旨,不斷研發(fā)改進(jìn),朝“更高更精更尖”方向不斷奮進(jìn)。公司在總結(jié)了臥式機(jī)一直存在且難以解決的四大難題,也是客戶使用的四大痛點(diǎn)的基礎(chǔ)上,獨(dú)創(chuàng)性的研發(fā)出具有獨(dú)立知識(shí)產(chǎn)權(quán)的無(wú)軸封無(wú)篩網(wǎng)立式砂磨機(jī),成功解決了臥式機(jī)的四大難題。


        臥式機(jī)四大難題:

        (1)軸封泄漏及損壞;

        (2)篩網(wǎng)堵塞 ;

        (3)難以用超細(xì)珠研磨;

        (4)產(chǎn)品顆粒不均勻 。


        現(xiàn)公司主要推出兩個(gè)系列的產(chǎn)品:


        1、W系列實(shí)驗(yàn)室砂磨機(jī)


        結(jié)構(gòu)特點(diǎn):

        (1)研磨細(xì)度:微米級(jí)、亞微米、納米級(jí);

        (2)研磨介質(zhì):Φ0.05-0.8mm;

        (3)磨腔構(gòu)件:全陶瓷/合金鋼;

        (4)轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu):渦輪銷(xiāo)釘;

        (5)無(wú)軸封結(jié)構(gòu),無(wú)泄漏困擾;  

        (6)無(wú)泵無(wú)管道,減少物料浪費(fèi)及污染;

        (7)清洗方便,可快速更換配方重新進(jìn)行研磨實(shí)驗(yàn);

        (8)特別適用昂貴材料及小量材料的研磨試驗(yàn)。



        2、SP系列無(wú)軸封無(wú)篩網(wǎng)立式砂磨機(jī)


        優(yōu)點(diǎn):

        (1)無(wú)軸封:無(wú)泄漏、損壞、維修的困擾; 

        (2)無(wú)篩網(wǎng):無(wú)堵塞、無(wú)需清理篩網(wǎng)及篩珠; 

        (3)超細(xì)研磨介質(zhì):Φ0.05-2.0mm,可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)超細(xì)研磨; 

        (4)分級(jí)分離分級(jí)研磨功能:離心分離的作用,細(xì)顆粒物料被排出磨腔,研磨次數(shù)少,可防止過(guò)磨; 


        大顆粒物料不能排出,在磨腔內(nèi)多磨幾次甚至幾十次,很快被磨細(xì);最終產(chǎn)品顆粒非常均勻,分布很窄。 


        公司產(chǎn)品現(xiàn)已成熟并廣泛應(yīng)用于先進(jìn)陶瓷材料(氮化硅、氧化鋯、碳化硼、氮化硼、氧化鋁等)、新型碳材料(碳納米管、碳纖維、石墨、碳復(fù)合材料和石墨烯等)、新能源材料(磷酸鐵鋰、鈷酸鋰、晶體硅等)及各種納米涂料、油墨、顏料、黏土等諸多領(lǐng)域,是名副其實(shí)的先進(jìn)納米材料制備專(zhuān)家。


        部分應(yīng)用實(shí)例:


        氮化硅(Si3N4



        原樣D50≤0.8μm  D90≤2.1μm

        磨后D50≤100nm D90≤150nm



        氧化硅(SiO2)



        原樣D50≤3.87μm  D90≤11.54μm

        磨后 D50≤60nm D90≤70nm



        氧化鋯(ZrO2



        原樣 D50≤1μm  D90≤2μm

        磨后 D50≤39nm  D90≤45nm



        剛玉(α- Al2O3)




        原樣 D50≤1.2μm  D90≤2.1μm

        磨后 D50≤100nm  D90≤200nm



        金剛石(C)



        原樣 D50≤1.1μm  D90≤1.8μm

        磨后 D50≤120nm  D90≤200nm



        氟化石墨((FC)n)



        原樣 D50≤50μm  D90≤90μm

        磨后 D50≤600nm  D90≤900nm



        磷酸鐵鋰(LiFePO4



        原樣D50≤4.06μm D90≤7.5μm

        磨后 D50≤50nm D90≤60nm



        硅(Si)



        原樣D50≤10μm D90≤18μm

        磨后 D50≤150nm D90≤200nm



        水性噴墨



        原樣D50≤18μm D90≤31μm

        磨后 D50≤40nm D90≤50nm



        三氧化鎢(WO3




        原樣 D50≤6.9μm  D90≤15.3μm

        磨后 D50≤40nm  D90≤70nm

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