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        科技日?qǐng)?bào):國(guó)產(chǎn)22納米光刻機(jī)治不了咱們的“芯”。


        來(lái)源:科技日?qǐng)?bào)

        [導(dǎo)讀]  中科院的22納米分辨率光刻機(jī)跟ASML壟斷的光刻機(jī)不是一回事,說(shuō)前者彎道超車,就好像說(shuō)中國(guó)出了個(gè)競(jìng)走名將要超越博爾特。

        中國(guó)粉體網(wǎng)訊  11月29日,中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗(yàn)收。消息傳著傳著,就成了謠言——《國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)偉大突破,國(guó)產(chǎn)芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術(shù)封鎖,彎道超車》《厲害了我的國(guó),新式光刻機(jī)將打破“芯片荒”》……

        筆者正好去中科院光電所旁聽此次驗(yàn)收會(huì),寫了報(bào)道,還算熟悉,無(wú)法茍同一些漫無(wú)邊際的瞎扯。

        中科院研制的這種光刻機(jī)不能(像一些網(wǎng)媒說(shuō)的)用來(lái)光刻CPU。它的意義是用便宜光源實(shí)現(xiàn)較高的分辨率,用于一些特殊制造場(chǎng)景,很經(jīng)濟(jì)。

        先解釋下:光刻機(jī)不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復(fù)的圖案,都可以用光刻——就像照相,圖像投在感光底片上,蝕掉一部分。半個(gè)多世紀(jì)前,美國(guó)人用這個(gè)原理“印刷”電路,從而有了大規(guī)模集成電路——芯片。

        為了節(jié)能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻機(jī)越做越極端。線條細(xì)到一定程度,投影就模糊了。要清晰投影,線條粗細(xì)不能低于光波長(zhǎng)的一半。頂尖光刻機(jī)用波長(zhǎng)13.5納米的極紫外光源,好刻10納米以下的線條。

         但穩(wěn)定的、大功率的極紫外光源很難造,一個(gè)得3000萬(wàn)元人民幣。要求工作環(huán)境嚴(yán)苛,配合的光學(xué)和機(jī)械部件又極端精密,所以荷蘭的ASML公司獨(dú)家壟斷極紫外光刻機(jī),創(chuàng)造了“一臺(tái)賣一億美金”的神話。

        十幾年前,國(guó)際上開始對(duì)表面等離子體(surface plasma,SP)光刻法感興趣。中科院光電所從2003年開始研究,是較早出成果的一個(gè)團(tuán)隊(duì)。所謂SP,光電所的科學(xué)家楊勇向筆者解釋:拿一塊金屬片和非金屬片親密接觸,界面上有一些亂蹦的電子;光投影在金屬上,這些電子就有序地震蕩,產(chǎn)生波長(zhǎng)幾十納米的電磁波,可用來(lái)光刻。

        但這種電磁波很弱,所以光刻膠得湊近了,才能刻出來(lái)。且加工精度與ASML的光刻機(jī)沒法比?處资{米級(jí)的芯片是沒法用SP光刻機(jī)的,至少以現(xiàn)在的技術(shù)不能。

        驗(yàn)收會(huì)上也有記者問:該光刻設(shè)備能不能刻芯片,打破國(guó)外壟斷?光電所專家回答說(shuō),用于芯片需要攻克一系列技術(shù)難題,距離還很遙遠(yuǎn)。

        總之,中科院的22納米分辨率光刻機(jī)跟ASML壟斷的光刻機(jī)不是一回事,說(shuō)前者彎道超車,就好像說(shuō)中國(guó)出了個(gè)競(jìng)走名將要超越博爾特。

        各家媒體第一時(shí)間報(bào)出的信息,就我看到的還算中規(guī)中矩。但后來(lái)網(wǎng)媒添枝加葉,搞到離譜。有些傳播者為吸引眼球、賺錢,最愛制造“自嗨文”和“嚇尿體”。聽到國(guó)產(chǎn)科技成就先往大里吹,驢吹成馬,馬吹成駱駝,好賣個(gè)駱駝價(jià)。

        這種“科技報(bào)道”是滿足虛榮心的偽新聞。行家聽了眉頭一緊,避之大吉。也難怪許多科學(xué)家怕上新聞。


        (中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/平安)

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