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        納米技術(shù)研究人員尋求芯片制造應(yīng)用


        來源:

        標(biāo)簽納米技術(shù)
        在德國舉行的納米技術(shù)論壇上,研究人員表示,試圖采用該技術(shù)填補未來半導(dǎo)體制造藍(lán)圖中的空隙。

            英飛凌科技正在開發(fā)面向通信技術(shù)的納米技術(shù)應(yīng)用。英飛凌的一位研究人員Karl Joachim Ebeling介紹了一種能夠用于控制半導(dǎo)體的帶寬為60 Gbps的SiGe晶體管。但他表示,設(shè)計師還不太清楚這種元件的全部容量。“那很難測量,”Ebeling說。然而,可以肯定的是,SiGe晶體管提供更高開關(guān)電壓,“至少與CMOS一樣出色,”他補充道。

            盡管英飛凌在超薄絕緣硅晶圓上采用高達(dá)45納米節(jié)點的平面MOSFET,但該公司表示正在考慮用于亞30納米節(jié)點SOI上的非平面FinFET結(jié)構(gòu)。Ebeling表示英飛凌正在研究高開關(guān)電流比率的FinFET,并有意在其FinFET存儲器中采用該器件,據(jù)他稱這種類型的元件將是全球首創(chuàng)。

            芯片設(shè)計師在采用納米技術(shù)時還遭遇到一個老問題:隨著結(jié)構(gòu)越來越小,掩膜成本以指數(shù)級增長!拔覀冾A(yù)計一套掩膜的費用為530萬美元,” Ebeling說。此外,曝光系統(tǒng)成本也爆炸性飛漲,預(yù)計每套步進(jìn)器的價值大約為8200萬美元。
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