日本東北大學(xué)金屬材料研究所和產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所通過激光CVD(化學(xué)氣相沉積)法使原料等離子化,開發(fā)出了在較原來約低400℃的溫度下對氧化鋁(Al2O3)單晶涂層進行成膜,并將成膜速度提高數(shù)10~1000倍的成膜技術(shù)。如果將該項研究成果用于刀頭可換式等切削工具的硬質(zhì)氧化鋁相涂層中,將有望大幅提高切削工具的壽命,因此吸引了廣泛關(guān)注。
日本東北大學(xué)金屬材料研究所教授后藤孝的研究小組一直在進行以下的研究:采用鋁有機金屬絡(luò)合物Al(acac)3(乙酰丙酮鋁)和氧氣,然后對其進行激光照射實現(xiàn)等離子化,形成活性反應(yīng)場,對氧化鋁α單晶相進行成膜,并優(yōu)化結(jié)晶方位。如果在激光器中采用半導(dǎo)體激光器使鋁的氣體原料實現(xiàn)等離子化,那么與目前的CVD法相比,可以低溫高速地制成硬質(zhì)α相氧化鋁。CVD的載氣中使用了氬氣。
此次將激光器由半導(dǎo)體激光器改為Nd(釹)-YAG(釔鋁石榴石)激光器,輸出功率提高到了250W,可大范圍照射激光,從而優(yōu)化了因等離子而形成的活性場。后藤教授介紹說,最終“我們成功地將成膜溫度降低了400℃,將成膜速度提高至數(shù)10~1000倍以上”。據(jù)后藤教授介紹,預(yù)計成膜速度最高可以快至數(shù)1000倍。成膜溫度為1000K左右,低于原方法的1500K。
α氧化鋁是采用“Corundum”型結(jié)晶構(gòu)造的氧化鋁高溫相,導(dǎo)熱率較小、即使在高溫下也具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性,因此有望作為超硬工具等切削工具的涂層。通過實驗獲得了α氧化鋁相單晶成膜的溫度和楊氏模量的合成領(lǐng)域范圍、將原料氣體的氣化溫度和裝置樣品室的壓力作為變數(shù)進行控制后的結(jié)晶方位范圍等。
此次的研究成果,是東北大學(xué)與產(chǎn)綜研可持續(xù)材料研究部門作為大幅減少稀有金屬W(鎢)使用量的經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省“稀有金屬代替材料開發(fā)項目”的研發(fā)課題而共同推進的。在成膜底板的實驗中采用了氧化鋁,后藤教授介紹說“還可以支持超硬工具(WC和Co是主要成分)底板中的被膜”。
以對α氧化鋁層進行低溫高速被膜的研究成果為基礎(chǔ),工具廠商如何支持超硬工具實現(xiàn)產(chǎn)品化將是今后的一大課題。后藤教授表示,覆層對象除了超硬工具外,“預(yù)計主要成分為TiN(氮化鈦)的金屬陶瓷也可被膜”;诩す釩VD的等離子活性化被膜法可以用于很多領(lǐng)域,這一點最受人矚目。
日本東北大學(xué)金屬材料研究所教授后藤孝的研究小組一直在進行以下的研究:采用鋁有機金屬絡(luò)合物Al(acac)3(乙酰丙酮鋁)和氧氣,然后對其進行激光照射實現(xiàn)等離子化,形成活性反應(yīng)場,對氧化鋁α單晶相進行成膜,并優(yōu)化結(jié)晶方位。如果在激光器中采用半導(dǎo)體激光器使鋁的氣體原料實現(xiàn)等離子化,那么與目前的CVD法相比,可以低溫高速地制成硬質(zhì)α相氧化鋁。CVD的載氣中使用了氬氣。
此次將激光器由半導(dǎo)體激光器改為Nd(釹)-YAG(釔鋁石榴石)激光器,輸出功率提高到了250W,可大范圍照射激光,從而優(yōu)化了因等離子而形成的活性場。后藤教授介紹說,最終“我們成功地將成膜溫度降低了400℃,將成膜速度提高至數(shù)10~1000倍以上”。據(jù)后藤教授介紹,預(yù)計成膜速度最高可以快至數(shù)1000倍。成膜溫度為1000K左右,低于原方法的1500K。
α氧化鋁是采用“Corundum”型結(jié)晶構(gòu)造的氧化鋁高溫相,導(dǎo)熱率較小、即使在高溫下也具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性,因此有望作為超硬工具等切削工具的涂層。通過實驗獲得了α氧化鋁相單晶成膜的溫度和楊氏模量的合成領(lǐng)域范圍、將原料氣體的氣化溫度和裝置樣品室的壓力作為變數(shù)進行控制后的結(jié)晶方位范圍等。
此次的研究成果,是東北大學(xué)與產(chǎn)綜研可持續(xù)材料研究部門作為大幅減少稀有金屬W(鎢)使用量的經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省“稀有金屬代替材料開發(fā)項目”的研發(fā)課題而共同推進的。在成膜底板的實驗中采用了氧化鋁,后藤教授介紹說“還可以支持超硬工具(WC和Co是主要成分)底板中的被膜”。
以對α氧化鋁層進行低溫高速被膜的研究成果為基礎(chǔ),工具廠商如何支持超硬工具實現(xiàn)產(chǎn)品化將是今后的一大課題。后藤教授表示,覆層對象除了超硬工具外,“預(yù)計主要成分為TiN(氮化鈦)的金屬陶瓷也可被膜”;诩す釩VD的等離子活性化被膜法可以用于很多領(lǐng)域,這一點最受人矚目。